[发明专利]包括MRI的粒子治疗设备

权利要求书

1.一种粒子治疗设备(1)，所述粒子治疗设备(1)用于以带电粒子束(15)照射目标(13)并且包括：

-用以生成所述带电粒子束(15)的粒子加速器；

-等中心机架(3)，所述等中心机架(3)配置成关于轴线Y可旋转并且包括沿着束路径布置的多个弯曲磁体，所述多个磁体包括第一弯曲磁体和末弯曲磁体(21)，所述第一弯曲磁体配置成沿着所述轴线Y接收所述粒子束(15)并且将所述粒子束(15)弯曲并引导远离所述轴线Y，

所述末弯曲磁体(21)配置成朝向所述机架(3)的等中心和根据最终束方向弯曲并引导所述粒子束(15)；

-磁共振成像系统(5)，所述磁共振成像系统(5)包括第一主磁体单元(9)和第二主磁体单元(11)，所述第一主磁体单元(9)和所述第二主磁体单元(11)由自由气隙分隔并且分别布置于所述机架的等中心(19)的相对侧上，所述第一主磁体单元(9)最靠近所述机架(3)的末弯曲磁体(21)，所述第一主磁体单元(9)和所述第二主磁体单元(11)配置成一起生成主磁场(Bo)，所述主磁场(Bo)平行于所述机架等中心(19)处的所述最终束方向；

其特征在于，所述设备(1)还包括无源磁屏蔽(7)，所述无源磁屏蔽(7)围绕所述磁共振成像系统(5)的所述第一主磁体单元(9)和所述第二主磁体单元(11)使得所述无源磁屏蔽(7)的一部分布置于所述机架(3)的所述末弯曲磁体(21)和所述磁共振成像系统(5)的所述第一主磁体单元(9)之间，其中所述无源磁屏蔽(7)的所述部分包括限定通路的第一通孔(27)，所述粒子束(15)可穿过所述第一通孔(27)以到达所述机架等中心(19)，

以及其特征在于，所述无源磁屏蔽(7)以及所述磁共振成像系统(5)的所述第一主磁体单元(9)和所述第二主磁体单元(11)均为与所述机架(3)一起关于所述轴线Y可同步旋转的。

2.根据权利要求1所述的粒子治疗设备，其特征在于，所述最终束方向为垂直于所述轴线Y的方向。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述第一主磁体单元(9)和所述第二主磁体单元(11)固定至所述无源磁屏蔽，和/或其特征在于，所述无源磁屏蔽(7)固定至所述机架(3)。

4.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述无源磁屏蔽(7)设计成因所述磁共振成像系统(5)的所述磁场和/或因所述机架(3)的磁体的所述磁场为不饱和的。

5.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述设备(1)还包括至少一个扫描磁体，所述至少一个扫描磁体沿着所述束路径布置并且配置成扫描所述目标(13)上的所述粒子束。

6.根据权利要求5所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述至少一个扫描磁体在所述第一弯曲磁体和所述末弯曲磁体(21)之间布置于所述机架(3)上。

7.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述无源磁屏蔽(7)包括第二通孔(29)，所述第二通孔(29)沿着所述最终束方向面向所述第一通孔(27)。

8.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述无源磁屏蔽(7)包括第三通孔(33)，所述第三通孔(33)的轴线平行于或重合于所述轴线Y，并且其尺寸设计成允许患者穿过其中。

9.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述无源磁屏蔽(7)包括铁磁材料的至少一个托架。

10.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述第一通孔(27)具有包括于10cm至50cm的范围内的直径。

11.根据权利要求1或2中任一项所述的粒子治疗设备(1)，其特征在于，所述粒子束(15)为在质子或离子之间所选择的带电粒子束。