[发明专利]一种BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法

权利要求书

1.一种BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：将碳纤维经过650～750℃高温处理后，置于丙酮中超声洗涤；以洗涤后的碳纤维为基体，在碳纤维基体表面通过射频磁控溅射法或直流磁控溅射法依次制备BN涂层和碳化物涂层；

所述BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料由碳纤维基体及其表面的BN/碳化物复合涂层构成；所述BN/碳化物复合涂层由下层BN层和上层碳化物层组成；所述碳化物层选自TiC层、VC层或ZrC层。

2.根据权利要求1所述的BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：

所述BN层厚度为30～300nm；

所述碳化物层厚度为70～700nm。

3.根据权利要求2所述的BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：所述BN层和所述碳化物的杂质质量百分比含量均不超过0.01％。

4.根据权利要求1所述的BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：所述高温处理的时间为5～20min。

5.根据权利要求1所述的BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：所述超声洗涤的时间为10～30min。

6.根据权利要求1、3～5任一项所述的BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：

所述BN涂层采用射频磁控溅射制备时，控制射频磁控溅射条件为：溅射前真空度为1.0×10^-3～1.0×10^-4Pa，射频溅射功率为100～3000W，沉积时间为30～300min，靶和纤维之间的距离为50～80mm，氩气流量为30～50sccm；

所述BN涂层采用直流磁控溅射制备时，控制直流磁控溅射条件为：溅射前真空度为1.0×10^-3～1.0×10^-4Pa，直流溅射电流为10～150mA，沉积时间为30～300min，靶和纤维之间的距离为50～80mm，氩气流量为30～50sccm。

7.根据权利要求1、3～5任一项所述的BN/碳化物涂层复合碳纤维电磁屏蔽材料的制备方法，其特征在于：

所述碳化物涂层采用射频磁控溅射法制备时，控制射频磁控溅射条件为：溅射前真空度为1.0×10^-3～1.0×10^-4Pa，射频溅射功率为100～3000W，沉积时间为30～500min，靶和纤维之间的距离为50～80mm，氩气流量为30～50sccm；

所述碳化物涂层采用直流磁控溅射法制备时，控制直流磁控溅射条件为：溅射前真空度为1.0×10^-3～1.0×10^-4Pa，直流溅射电流为10～150mA，沉积时间为30～500min，靶和纤维之间的距离为50～80mm，氩气流量为30～50sccm。