[发明专利]原位检测衬底处理系统的衬底区域中的氧的系统和方法

权利要求书

1.一种用于测量衬底上方的中性气体物质的浓度的测量系统，其包括：

室；

位于所述室中以支撑衬底的衬底支撑件；

等离子体源，其用于在所述室中在所述衬底上方产生等离子体，其中所述等离子体产生比中性气体物质具有更高的电离能的亚稳态物质，并且其中所述亚稳态物质激发位于所述衬底上方的所述中性气体物质；

光学发射光谱仪(OES)传感器，其用于在由所述等离子体源产生所述等离子体的同时测量来自所述衬底上方的位置的光谱；和

控制器，其被配置为基于测得的所述光谱确定所述衬底上方的区域中的所述中性气体物质的浓度。

2.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述控制器被配置为基于所述浓度选择性地在所述衬底上执行处理。

3.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述控制器通过将在预定波长下的测得的所述光谱的强度与预定参考值进行比较来确定所述中性气体物质的所述浓度。

4.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述控制器使用由在预定波长下的测得的所述光谱的强度索引的查找表来确定所述中性气体物质的所述浓度。

5.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述控制器使用预定函数以及在预定波长下的测得的所述光谱的强度来确定所述中性气体物质的所述浓度。

6.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述等离子体源使用不包括所述中性气体物质的等离子体气体混合物来产生所述等离子体。

7.根据权利要求1所述的测量系统，其中提供给所述等离子体源的等离子体气体混合物包括氦，并且其中所述亚稳态物质包括氦亚稳态物质。

8.根据权利要求7所述的测量系统，其中所述等离子体气体混合物还包括选自由氩、氖和分子氮组成的组中的至少一种气体。

9.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述中性气体物质包括分子氧。

10.根据权利要求1所述的测量系统，其中所述中性气体物质包括分子氮。