[发明专利]一种光纤包层高功率剥除组合装置和剥除方法

权利要求书

1.一种光纤包层高功率剥除组合装置，其特征在于，所述装置包括掩模板（1）和光纤腐蚀装置（2）；

所述掩模板（1）的进光端和出光端之间设有透光区（101）和不透光区（102），所述透光区（101）和所述不透光区（102）相互间隔设置，并且所述透光区（101）分段逐渐加宽，所述掩模板（1）的一端设有旋转机构（103），所述旋转机构（103）包括能够夹持光纤的夹持部；

所述光纤腐蚀装置（2）包括光纤固定立柱（201）、酸液槽（202）和升降台（203），所述光纤固定立柱（201）内侧设有所述酸液槽（202），所述升降台（203）能够使得所述光纤固定立柱（201）上下纵向移动，所述光纤固定立柱（201）的上端内侧面设有光纤加持固定机构（204）。

2.根据权利要求1所述的一种光纤包层高功率剥除组合装置，其特征在于：所述旋转机构（103）包括转动电机和设在转动电机转动轴上的所述夹持部，所述夹持部为螺栓夹持机构。

3.一种光纤包层高功率剥除方法，采用权利要求1所述的光纤包层高功率剥除组合装置，其特征在于，首先制作所述透光区（101）宽度不同的所述掩模板（1）；然后剥除光纤的涂覆层，并在剥除涂覆层的光纤上涂光刻胶，曝光前将所述掩模板（1）加到光纤上面，所述掩模板（1）从进光端到出光端，所述透光区（101）分段逐渐加宽，曝光过程通过所述旋转机构（103）旋转光纤使光刻胶的透光区域充分曝光、显影；最后将光纤的两端分别固定在所述光纤固定立柱（201）的上端，然后将光纤需要腐蚀的区域浸没在所述酸液槽（202）中的氢氟酸溶液内，从光纤需要腐蚀的区域浸没在氢氟酸时刻算起，T₁时刻，升高L₁高度，T₂时刻升高L₂高度，T_n时刻升高L_n高度，具体时间间隔T和升高高度L通过光纤类型和氢氟酸浓度确定。