[发明专利]高能粒子注入系统及高能粒子注入控制方法

权利要求书

1.一种高能粒子注入系统，其特征在于，包括：

高能粒子发射机头，所述高能粒子发射机头沿着一条射束路径发射高能粒子束；

PET系统，所述PET系统包括多个检测器和能够旋转的支撑单元，所述多个检测器呈环状分布在所述支撑单元上以构成检测器环，所述支持单元具有位置调节装置使所述检测器环中的全部或者部分检测器在收缩位置和伸出位置之间可移动，每一所述检测器对来自放射线的光进行计数，且每相邻两所述检测器在以被检体的体轴为轴的旋转面上设置有使由所述高能粒子发射机头发射的高能粒子束通过的间隙部分；以及

控制系统，与所述高能粒子发射机头连接，以控制所述高能粒子发射机头朝向所述间隙部分发射高能粒子束。

2.根据权利要求1所述的高能粒子注入系统，其特征在于，包括能够旋转和升降的支架，所述高能粒子发射机头设置在所述支架上。

3.根据权利要求2所述的高能粒子注入系统，其特征在于，包括载置被检体的载置床，所述载置床在平行于被检体的体轴方向能够轴向移动。

4.根据权利要求3所述的高能粒子注入系统，其特征在于，所述控制系统包括控制台，所述支架、所述载置床、所述高能粒子发射机头以及所述PET系统分别与所述控制台连接。

5.根据权利要求4所述的高能粒子注入系统，其特征在于，所述高能粒子发射机头包括：

磁控扫描系统，将分散的初级电子束聚焦到一点，打靶产生所述高能粒子束；

偏转磁铁，以改变从所述磁控扫描系统出射的高能粒子束的方向；

初级准直器，准直从所述偏转磁铁入射的高能粒子束；

双散射系统，位于所述初级准直器前方；

束流监测系统，位于所述双散射系统前方；

射程调节系统，位于所述束流监测系统前方，用于调节所述高能粒子束的射程；

多叶准直器，用于调节所述高能粒子束射野的形状和位置；以及

补偿器，位于所述多叶准直器与所述检测器环之间。

6.根据权利要求2-5中任意一项所述的高能粒子注入系统，其特征在于，所述PET系统包括多个检测器环，所述多个检测器中的至少三个检测器构成检测器组，每一所述检测器组构成一个检测器环，所述多个检测器环沿被检体的体轴间隔分布，相邻两个所述检测器环之间的间隔设置成能使由所述高能粒子发射机头发射的高能粒子束通过。

7.根据权利要求6所述的高能粒子注入系统，其特征在于，所述高能粒子发射机头具有多个粒子束出射部，多个粒子束出射部圆周分布于所述检测器环的外围。

8.一种高能粒子注入控制方法，其特征在于，通过权利要求1-7中任意一项所述的高能粒子注入系统朝被检体注入高能粒子，包括步骤：

根据被检体的大小，调整检测器环的孔径，确定间隙部分的位置；

使检测器环和高能粒子束的入射路径共面；

使所述高能粒子发射机头朝向所述间隙部分发射高能粒子束。

9.根据权利要求8所述的高能粒子注入控制方法，其特征在于，还包括步骤：

调整相邻两个检测器环之间的间隔；

轴向移动所述载置床，使高能粒子发射机头朝向所述间隔发射高能粒子束。

10.根据权利要求8所述的高能粒子注入控制方法，其特征在于，还包括步骤：在以被检体的体轴为轴的旋转面上旋转高能粒子发射机头或/和支撑单元，使高能粒子发射机头朝向检测器环上的间隙部分发射高能粒子束。

11.根据权利要求10所述的高能粒子注入控制方法，其特征在于，通过旋转所述支架以旋转高能粒子发射机头。

12.根据权利要求8所述的高能粒子注入控制方法，其特征在于，还包括步骤：通过圆周分布于检测器环的外围的多个粒子束出射部向被检体的同一位置发射高能粒子束。

13.根据权利要求8所述的高能粒子注入控制方法，其特征在于，还包括步骤：通过圆周分布于检测器环的外围的多个粒子束出射部向被检体的不同位置分别发射高能粒子束。