[发明专利]玻璃板和玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示器等使用的玻璃板和玻璃基板(玻璃板)的制造方法。

背景技术

在平板显示器等的制造工艺中，以真空吸附将玻璃板保持于载物台(台座)并形成电路等，在将玻璃板自载物台拆下时，会引起剥离带电而使玻璃板产生龟裂、裂纹，因此，为了防止剥离带电，公知有使吸附面表面粗糙化的方案(参照专利文献1)。

专利文献1公开有以下这样的玻璃板：该玻璃板包括作为形成半导体元件或彩色胶片的表面的第1表面、以及与第1表面相反的一侧的第2表面，第2表面具有大于-1.5且小于-0.5的Rsk，该玻璃板为使用了具有包含SiO₂、Al₂O₃以及B₂O₃的组成的硼铝硅酸盐玻璃的基板，利用表面处理降低与载置玻璃板的平台(载物台)表面接触的第2表面的面积，更有效地抑制玻璃基板的带电。

专利文献1：日本特开2014-69999号公报

发明内容

发明要解决的问题

在专利文献1中，由于作为反应气体的氟化氢气体的蔓延，不仅使第2表面受到影响，还使得形成半导体元件等的第1表面也受到反应气体的影响。例如，可列举由于第1主表面的表面的平滑性受损、因反应气体使玻璃表面的Al被置换为F而表现憎油性，因而使半导体元件等的密合性劣化的情况。这样，存在有以下的课题：若与本来成为表面粗糙化的对象的表面(第2表面)不同的表面(第1表面)受到反应气体的影响，则在形成半导体元件、滤色器、黑色矩阵(BM)等时引起不良。

本发明的目的在于提供使成为吸附面的面粗糙化、且抑制反应气体对相反侧的半导体元件等的形成面的影响的玻璃板和该玻璃板(玻璃基板)的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明的玻璃板具有：第1主表面；第2主表面，其与所述第1主表面相对；以及端面，其连接所述第1主表面和所述第2主表面，所述第1主表面的第1表面粗糙度小于所述第2主表面的第2表面粗糙度，所述第1主表面的Al/Si的值大于所述第2主表面的Al/Si的值。

本发明的玻璃基板的制造方法为显示器用玻璃基板的制造方法，其中，该制造方法具有：制作玻璃基板的工序；以及表面粗糙化工序，仅对所述玻璃基板的主表面中的一个主表面的玻璃表面使用反应气体进行表面粗糙化。

发明的效果

采用本发明，能够提供使成为吸附面的面粗糙化、且抑制反应气体对相反侧的半导体元件等的形成面的影响的玻璃板。

附图说明

图1的(a)～图1的(b)表示本发明所涉及的玻璃板的一例子，图1的(a)是主视立体图，图1的(b)是表面粗糙化装置内的输送状态的示意图。

图2的(a)～图2的(b)是表示本发明所涉及的玻璃板的制造方法的一例子的示意图，图2的(a)是实施方式1，图2的(b)是实施方式2。

图3的(a)～图3的(b)是接着图2的(a)～图2的(b)的图，图3的(a)是实施方式3，图3的(b)是实施方式4。

图4的(a)～图4的(c)表示测量本发明所涉及的玻璃板的第1主表面的氟量以及Al/Si比得到的结果，图4的(a)是测量点的主视图，图4的(b)是氟量的测量结果的表，图4的(c)是Al/Si测量结果的表。

图5的(a)～图5的(c)是表示本发明所涉及的玻璃板的以表示各种粗糙度的指标测量得到的值的表，图5的(a)是第1主表面的测量值，图5的(b)是第2主表面的测量值，图5的(c)是以图5的(a)～图5的(b)的各平均值计算的第1主表面/第2主表面的值。

图6的(a)～(b)是测量本发明所涉及的玻璃板的第1端面、第2端面、第3端面、第4端面的碎玻璃剥离率得到的表，图6的(a)是第1样品，图6的(b)是第2样品。

附图标记说明

1、玻璃板(玻璃基板)；10、第1主表面；20、第2主表面；30、第1端面；40、第2端面；50、第3端面；60、第4端面；100、表面粗糙化装置；101、旋转辊；102、喷嘴；103、顶板；G、残留气体。

具体实施方式

以下，使用附图详细说明本发明所涉及的玻璃板的具体的实施方式。