[发明专利]一种用于等离子喷涂靶材的风冷装置

说明书

本发明涉及一种用于等离子喷涂靶材的风冷装置，中心支撑的外侧设置有外壳体，外壳体的端部设置有端盖，中心支撑和外壳体中分别设置有第一旋转密封圈和第二旋转密封圈，第一旋转密封圈和壳体间设置有第一轴承，第二旋转密封圈和端盖间设置有第二轴承，外壳体的上方设置有通气管，通气管与中心腔相连通，中心支撑的左端均匀布设有四个进气孔，中心腔右侧设置有若干个连通孔，导流环与连通孔相连通中心支撑的右端设置有导流环，导流环的右端设置有整流芯。本发明结构简单，设计紧凑，装卡方便，可靠性高；减轻了整体的重量，降低了转动过程中的离心力；同时避免了因冷却水渗漏而导致的靶材报废，从而降低了生产成本，显著地提高经济效益。

技术领域

本发明涉及一种用于等离子喷涂靶材的风冷装置，属于等离子喷涂装置技术领域。

背景技术

等离子喷涂既是一种表面处理技术，也是一种优异的材料成型技术，用等离子快速凝固技术来生产旋转靶材具有材料适应范围广、质量优异、成本低廉的优点。在生产过程中为了提高上粉率和防止靶材开裂，需要对靶材背管的温度进行控制。目前，国内普遍采用水冷装置，此装置包含加热和冷却水的装置和水循环的管路，用装卡夹具固定在靶材背管两端，水通过夹具在靶材背管内部流通，通过水温来控制背管温度。这种方法技术要求低，控温效果很好，但是加热和冷却水需要消耗大量的电能，效率较低，准备时间较长；另外背管内部的水在转动的过程中会产生离心力，导致靶材晃动幅度增大，进而使背管变形，会增加陶瓷材料开裂的风险；如果和背管连接的部位发生漏水，会导致靶材被污染，甚至开裂进而报废。每年因水冷装置漏水而产生的靶材报废率高达3-5%，给靶材生产厂家造成了巨大的成本压力。

发明内容

本发明的目的是为了解决等离子喷涂中存在的上述问题，提供了一种结构简单，设计紧凑的用于等离子喷涂靶材的风冷装置。

本发明采用如下技术方案：一种用于等离子喷涂靶材的风冷装置，包括两个对称设置的连接头，所述连接头包括中心支撑、端盖、外壳体、通气,管、第一旋转密封圈、第二旋转密封圈、第一轴承、第二轴承、导流环和整流芯，所述中心支撑的外侧设置有外壳体，所述中心支撑的中部设置有中心腔，所述外壳体的端部设置有端盖，所述中心支撑的右端设置有导流环，所述导流环的右端设置有整流芯；第一旋转密封圈和第二旋转密封圈分别设置在外壳体与中心支撑之间的空腔中，分别位于通气管两侧，所述第一旋转密封圈和壳体间设置有第一轴承，所述第二旋转密封圈和端盖间设置有第二轴承，所述外壳体的上方设置有通气管，所述通气管与中心腔相连通，所述中心支撑的左端均匀布设有四个进气孔，所述中心腔右侧设置有若干个连通孔，所述导流环与连通孔相连通。

进一步的，所述整流芯的轮廓曲线沿轴向对称，剖面曲线上的点到整流芯左边缘的轴向距离k分为三段，k=γD为第一段与第二段的节点，D为背管内径，γ=0.06～0.1；k=ξD为第二段与第三段的节点，ξ=0.8～1.15；k=σD为第三段的终点，σ=1.33～1.50；

第一段剖面轮廓曲线符合y=k（x-a）^-1+b，y为剖面上的点到整流芯轴线的垂直距离，x为剖面上的点到整流芯左边缘的水平距离，k=0.7～1.2，a=0.03D～0.05D，b=0.03D～0.05D；第二段剖面轮廓曲线符合y=-k（x-a）^c-b，y为剖面上的点到整流芯轴线的垂直距离，x为剖面上的点到整流芯左边缘的水平距离，k=0.5—1.3，a=0.08D～0.125D，b=0.05D～0.11D，c=0.6～0.98；第三段剖面轮廓曲线符合x=-k（y-a）^c-b，y为剖面上的点到整流芯轴线的垂直距离，x为剖面上的点到整流芯左边缘的水平距离，k=0.8～1.2，a=0.05D～0.11D，b=0.86D～1.20D，c=0.4～0.7。

进一步的，所述第二旋转密封圈和第二轴承间设置有支撑圆环。

进一步的，所述第一轴承和第二轴承的一侧分别设置有卡簧。

进一步的，所述第一旋转密封圈和第二旋转密封圈上分别设置有紧固弹簧。