[发明专利]一种消光高性能PS复合材料及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于高分子材料技术领域，特别是指一种消光高性能PS复合材料及其制备方法。

背景技术

聚苯乙烯(PS)因其性能优异、来源广、易加工，成为现代应用最广泛的塑料之一。PS具有良好的耐疲劳性，较好的耐热性，优良的尺寸稳定性等优点，但是它的消光性能一般。在一些特定的应用领域，对PS有消光性能和更高物理性能的要求，普通PS复合材料无法满足要求。

本发明创造性地合成一种消光高性能PS复合材料，改善它的消光性能、物理性能，这大大扩展了PS复合材料的使用范围，具有非常重要的现实意义。

发明内容

本发明的目的是提供一种消光高性能PS复合材料及其制备方法，以解决现有技术PS不能满足对消光性能要求的问题。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种消光高性能PS复合材料，按重量份由以下组分组成：

所述增韧剂为甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯三元共聚物。

所述消光母粒，由以下重量份的组分制成：

所述抗氧剂为三(2,4-二叔丁基)亚磷酸苯酯与四[β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸]季戊四醇酯的混合物，且质量比为1:1。

所述润滑剂为乙撑双硬脂酸酰胺。

所述消光母粒的制备包括如下步骤：

(1)称取70份-90份的PP，12份-16份羟乙基邻苯二甲酰胺、0.1份-0.5份EBS；

(2)将物料放入高速搅拌机内，在40-60℃运行2-4h；

(3)将步骤(2)所得的混合料加入到挤出机中，挤出造粒，即得到消光母粒。

步骤(3)中的挤出机包括顺次排布的六个温度区，一区温度160～180℃，二区温度200～230℃，三区温度200～230℃，四区温度200～230℃，五区温度200～230℃，六区温度200～230℃，机头温度200～230℃；螺杆转速180～260r/min。

所述抗氧剂为三(2,4-二叔丁基)亚磷酸苯酯、四[β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸]季戊四醇酯或1,3,5-三甲基-2,4,6-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲基)苯中的一种或多种。

所述相容剂为SEBS-g-MAH。

一种消光高性能PS复合材料的制备方法，包括如下步骤：

(1)称取重量份为80份-100份的PS、16份-20份硫酸钙晶须、6份-8份云母粉、10份-16份MBS、6份-10份消光母粒、0.1份-0.5份的抗氧剂和0.1份-0.3份SEBS-g-MAH混合并搅拌均匀，得到混合料；

(2)将步骤(1)中得到的混合料挤出造粒，即得到PS复合材料。

所述步骤(2)具体为：

将步骤(1)中得到的混合料投入到双螺杆挤出机的料斗中挤出造粒，其中，所述双螺杆挤出机包括顺次排布的六个温度区，一区温度160～180℃，二区温度210～230℃，三区温度210～230℃，四区温度210～230℃，五区温度210～230℃，六区温度210～230℃，机头温度210～230℃,螺杆转速200～280r/min。

本发明的有益效果是：

硫酸钙晶须本身高度有序的原子排列结构，使其晶体结构接近完美晶体结构，原子间价键的结合强度大，使晶须具有很高的强度和模量，从而使其改性的PS复合材料具有优异的力学性能。

消光母粒的加入提高了PS复合材料的消光性能。

具体实施方式

以下通过实施例来详细说明本发明的技术方案，以下的实施例仅是示例性的，仅能用来解释和说明本发明的技术方案，而不能解释为是对本发明技术方案的限制。

本发明各实施例中所用的原料如下：

PS(型号350)，台湾国乔；硫酸钙晶须，河南科力新材料股份有限公司；云母粉，石家庄华邦矿产品有限公司；MBS，深圳帕斯特新材料科技有限公司；抗氧剂(型号Irganox1010、Irganox168、Irganox1330)，瑞士汽巴精化；SEBS-g-MAH，苏州亚赛塑化有限公司。

本发明所用的测试仪器如下：