[发明专利]一种多晶硅料的循环清洗出料装置在审
申请号: | 201710824877.6 | 申请日: | 2017-09-14 |
公开(公告)号: | CN107497773A | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 张靖;田晓军;姚兴平;李素琴;张何;严磊 | 申请(专利权)人: | 江苏新潮光伏能源发展有限公司 |
主分类号: | B08B3/10 | 分类号: | B08B3/10;B08B3/08;B08B13/00;C30B35/00 |
代理公司: | 南京苏创专利代理事务所(普通合伙)32273 | 代理人: | 王华 |
地址: | 225600 江苏省扬州市高邮经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多晶 循环 清洗 装置 | ||
技术领域
本发明涉及多晶硅技术领域,具体为一种多晶硅料的循环清洗出料装置。
背景技术
现有的多晶硅在加工生产过程中需要对多晶硅料进行浸泡清洗除杂,多晶硅料的浸泡清洗过程只是使用混合酸液浸泡一定的时间,而该过程中未对多晶硅料进行搅拌,或者搅拌幅度较小,由于部分多晶硅料较小,多晶硅料和多晶硅料之间接触比较紧密,且清洗量大,混合酸液未能和多晶硅料充分接触,进而导致多晶硅料浸泡清洗效果不佳,进而影响多晶铸锭质量,同时一次使用后的混合酸液被当作废液排出,增加了混合酸液的使用量和清洗成本。多晶硅料在清洗完成后需要进行出料,由于多晶硅料形状不尽相同,很容易在出料口发生堵塞现象,影响多晶硅料的正常出料,从而影响工作效率。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种多晶硅料的循环清洗出料装置,具备循环清洗出料的优点,解决了目前市场上对多晶硅难以进行循环清洗和出料堵塞的问题。
(二)技术方案
为实现上述循环清洗出料的目的,本发明提供如下技术方案:一种多晶硅料的循环清洗出料装置,包括机体,所述机体的内腔两侧均固定连接有连接块,所述连接块的一端固定连接有清洗箱,所述清洗箱的顶部开设有进料口,所述进料口的顶部设置有密封盖,所述清洗箱的底部一侧固定连接有贯穿机体的输送管道,所述输送管道上固定安装有泵,所述输送管道的底部设置有液体箱,所述液体箱的底部固定连接有位于机体外部一侧的支撑块,所述机体外部的另一侧固定连接有支撑台,所述支撑台的上表面固定连接有第一电机,所述第一电机的输出轴固定连接有旋转杆,所述旋转杆的表面上固定连接有位于清洗箱内部的搅拌叶,所述清洗箱的底部固定安装有阀门,所述阀门的底部设置有漏斗,所述漏斗的底部设置有出料筒,所述机体的内腔底部固定连接有支撑柱,所述支撑柱的顶部固定连接有支撑板,所述支撑板的顶部固定安装有第二电机,所述第二电机的输出轴固定连接有转轴,所述转轴的外侧固定连接有位于出料筒内部的螺旋盘,所述出料筒的底端一侧开设有出料口。
优选的,所述输送管道上固定安装有双向阀门,所述泵为双向齿轮泵。
优选的,所述液体箱的内部放置有混合酸液。
优选的,所述清洗箱底部远离输送管道的一侧固定连接有进水管道,且进水管道上安装有水阀。
优选的,所述旋转杆与清洗箱接触处设置有防水密封圈。
优选的,所述第一电机和第二电机的外部均设置有电机外罩。
(三)有益效果
与现有技术相比,本发明提供了一种多晶硅料的循环清洗出料装置,具备以下有益效果:
1、该多晶硅料的循环清洗出料装置,通过设置第一电机、旋转杆、搅拌叶和液体箱,通过第一电机带动旋转杆转动,进而带动多晶硅料在清洗箱中进行搅拌,使混合酸液和多晶硅料充分接触,提高浸泡清洗效果,同时清洗箱通过输送管道与液体箱连接,液体箱中放置有混合酸液,输送管道上安装的泵为为双向齿轮泵,浸泡清洗时,从液体箱中抽取混合酸液到清洗箱中,浸泡清洗结束后,将清洗箱中的混合酸液抽取到液体箱中以备下次浸泡清洗,使混合酸液能循环多次使用,降低了清洗成本,提高了经济效率。
2、该多晶硅料的循环清洗出料装置,通过设置螺旋盘和转轴,第二电机带动转轴转动,从而带动螺旋盘转动,多晶硅料从漏斗进入出料筒中,螺旋盘转动可以使多晶硅料自动、连续以及均匀出料,不会发生多晶料硅堵塞在出料口的现象,保证了清洗后的多晶硅料正常出料。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明图1中A部的局部放大结构示意图。
图中:1机体、2连接块、3清洗箱、4进料口、5密封盖、6输送管道、7泵、8液体箱、9支撑块、10支撑台、11第一电机、12旋转杆、13搅拌叶、14阀门、15漏斗、16出料口、17支撑柱、18支撑板、19第二电机、20出料筒、21转轴、22螺旋盘。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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