[发明专利]一种去污装置

说明书

本发明公开了一种去污装置，用于对污水缸内壁进行清洁处理，包括左右方向伸延的架体、固定安装在架体左上端的凸台、去污部以及推送部，凸台中设置有开端朝右且上下伸延的第一滑推槽，第一滑推槽中可上下活动地安装有滑推架，架体上端设置有开端朝上且左右伸延的滑横向动槽，第二滑推槽左右端壁之间可环转地安装有第一螺柱，第一螺柱左端与固定安装在架体中的第一电机连接；推送部包括活动安装在第二滑推槽中且与第一螺柱配合连接的滑台，滑台中设置有左右伸延的半圆槽，滑台中还设置有用于固定污水缸的夹环。

技术领域

本发明涉及市政去污领域，具体涉及一种去污装置。

背景技术

在市政排污体系中，往往要对盛装污水的污水缸进行定时清洁工作，传统的清洁方式一般都是采用人工清洁，其清洁难度大且劳动强度高，现有中也有较多的机械式清洁装置，但其结构复杂且转动方向单一，因此，遇到顽固污渍时，单一的转动方向不能完全清除，其清洁效果不明显，如果加大清洁力度会对污水缸内壁造成损坏，因此，上述清洁方式存在较大的弊端，需要改进。

发明内容

本发明的目的在于提供一种去污装置，能够克服现有技术的上述缺陷。

根据本发明，本发明装置的一种去污装置，用于对污水缸内壁进行清洁处理，包括左右方向伸延的架体、固定安装在所述架体左上端的凸台、去污部以及推送部，所述凸台中设置有开端朝右且上下伸延的第一滑推槽，所述第一滑推槽中可上下活动地安装有滑推架，所述架体上端设置有开端朝上且左右伸延的第二滑推槽，所述第二滑推槽左右端壁之间可环转地安装有第一螺柱，所述第一螺柱左端与固定安装在所述架体中的第一电机连接；所述推送部包括活动安装在所述第二滑推槽中且与所述第一螺柱配合连接的滑台，所述滑台中设置有左右伸延的半圆槽，所述滑台中还设置有用于固定所述污水缸的夹环，所述第二滑推槽底壁中还设有排水槽，所述排水槽底部设有排水管，所述排水管末端贯穿所述架体底壁且末端固定设有导流管；所述去污部包括中轴、筒管、第一转环、第二转环、与所述第一转环相配合的第一去污套和与所述第二转环配合的第二去污套，所述第一转环中设置有第一转腔，所述第一转腔内壁上设置有内齿环，所述第一转腔中安装有安设架，所述安设架中设置有第二转腔，所述第二转腔圆面上周向设置有四个通合槽，所述通合槽中通过转杆可环转地安装有与所述内齿环配合连接的齿链轮，所述筒管左端固定安装在所述滑推架右端，所述筒管右端贯穿所述第一转环并与所述安设架固定连接，所述筒管中设置有中孔，所述中轴可环转地安装在所述中孔中，所述中心转杆左端与固定安装在所述滑推架中的第二电机连接，所述中轴右端贯穿所述安设架和第一转环并向右伸延，所述第二转环固定安装在所述中轴右端，所述第二转腔中还安装有与所述齿链轮配合连接且与所述中轴固定连接的齿盘。

进一步的技术方案，所述第一去污套包括第一转壳以及固定安装在所述第一转壳外端面上的第一去污刷，所述第二去污套包括第二转壳以及固定安装在所述第二转壳外端面上的第二去污刷，所述第一转壳和所述第二转壳内壁中分别设置有左右伸延的第一花键槽和第二花键槽，所述第一转环和第二转环外端面上分别设置有与所述第一花键槽相配合的第一花键和与所述第二花键槽相配合的第二花键。

进一步的技术方案，所述第一转环外端面左端设置有第一环体块，所述第一转壳左端设置有与所述第一环体块相配合的第一环体部，所述第一环体部右端壁中设置有第一螺痕槽，所述第一环体块中还设置有第一沉腔，所述第一沉腔中安装有与所述第一螺痕槽配合的第一螺钉，从而可将所述第一转壳与所述第一转环相固定。

进一步的技术方案，所述第二转环右端设置有第二环体部，所述第二转壳右端设置有与所述第二环体部相配合的第二环体块，所述第二环体部左端壁中设置有第二螺痕槽，所述第二环体块中还设置有第二沉腔，所述第二沉腔中安装有与所述第二螺痕槽配合的第二螺钉，从而可将所述第二转壳与所述第二转环相固定。

进一步的技术方案，所述第一转环的外径大于所述第二转环的外径，故所述第一转壳可经由所述第二转环而安装到所述第一转环上。