[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法有效
申请号: | 201710788152.6 | 申请日: | 2017-09-05 |
公开(公告)号: | CN107807494B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 大阪昇 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照明 光学系统 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
1.一种照明光学系统,对被照明面进行照明,所述照明光学系统的特征在于,具有:
遮光板,形成由第1圆弧和第2圆弧规定的开口部,该开口部规定所述被照明面中的照明区域的形状;
调整部,进行所述遮光板的调整,以变更所述遮光板中的所述第1圆弧的曲率或所述第2圆弧的曲率,使所述第1圆弧的曲率与所述第2圆弧的曲率不同,从而变更所述被照明面中的所述照明区域;以及
波长选择部,选择对所述被照明面进行照明的光的波长,
所述调整部根据由所述波长选择部选择出的波长的光,以降低起因于所述照明光学系统中包括的透镜中产生的色差的照度不均的方式,变更所述照明区域。
2.根据权利要求1所述的照明光学系统,其特征在于,
所述照明光学系统一边使掩模在第1方向移动,一边对所述掩模的被照明面进行照明,
所述调整部根据由所述波长选择部选择的波长,使用所述遮光板来变更所述照明区域中的所述第1方向的前或者后的边界的位置。
3.根据权利要求2所述的照明光学系统,其特征在于,
所述遮光板具有:第1遮光板,用于对所述照明区域中的所述第1方向的上游侧以及下游侧的边界的位置进行变更;以及第2遮光板,用于对所述照明区域中的所述第1方向的上游侧或者下游侧的边界的形状进行变更,
所述调整部根据由所述波长选择部选择的波长,使用所述第1遮光板来变更所述照明区域中的所述第1方向的上游侧和下游侧的边界的位置。
4.根据权利要求3所述的照明光学系统,其特征在于,
所述调整部包括:第1调整部,调整所述第1遮光板在所述第1方向上的位置;第2调整部,调整所述第2遮光板的形状。
5.根据权利要求1所述的照明光学系统,其特征在于,
还具有积分器选择部,该积分器选择部将从用于对所述被照明面进行照明的射出角互不相同的多个光学积分器之中选择出的光学积分器配置于光路,
所述调整部根据配置于所述光路的光学积分器,使用所述遮光板来变更所述照明区域。
6.根据权利要求1所述的照明光学系统,其特征在于,
还具有开口光阑选择部,该开口光阑选择部将从开口的形状互不相同的多个开口光阑之中选择出的开口光阑配置于光路,
根据配置于所述光路的开口光阑,使用所述遮光板来变更所述照明区域。
7.根据权利要求1所述的照明光学系统,其特征在于,
所述波长选择部具有使互不相同的波长的光透射的多个波长滤波器,将从所述多个波长滤波器之中选择出的波长滤波器配置于光路。
8.根据权利要求1所述的照明光学系统,其特征在于,
所述波长选择部具有多个光源部,该多个光源部射出互不相同的波长的光。
9.一种曝光装置,其特征在于具有:
对掩模进行照明的权利要求1至8中的任意一项所述的照明光学系统;以及
投影光学系统,将所述掩模的图案的像投影到基板。
10.根据权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,
还具有测量部,该测量部对所述基板上的曝光区域中的照度分布的不均进行测量,
所述调整部根据由所述测量部测量出的所述照度分布的不均,使用所述遮光板来变更所述照明区域。
11.一种物品制造方法,其特征在于包括:
使用权利要求10所述的曝光装置来对基板进行曝光的工序;以及
对在所述工序中被曝光的所述基板进行显影的工序,
利用被显影的所述基板制造物品。
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