[发明专利]成像方法、成像装置及电子设备有效
| 申请号: | 201710778418.9 | 申请日: | 2017-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN107682597B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
| 发明(设计)人: | 杜琳 | 申请(专利权)人: | 北京小米移动软件有限公司 |
| 主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/232 |
| 代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
| 地址: | 100085 北京市海淀区清河*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成像 方法 装置 电子设备 | ||
1.一种成像方法,其特征在于,包括:
获取反射电磁波信号,所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成;其中,所述图像传感器包括若干成像子区,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变;
根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括,利用所述反射电磁波信号获取所述成像子区在所述入射光线下的形变参数,根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息,其中,所述光线信息包括:入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一;
根据所述光线信息形成预览图像,确定至少一个ROI(region of interest,感兴趣区域)区域;
控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动,以增加所述成像子区在所述区域的分布密度。
2.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括:
对所述反射电磁波信号进行解调,以获得第一信号;
根据所述第一信号恢复出所述入射光线的光线信息。
3.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于,所述成像子区包括:
感光层,感应入射光线的照射,并发生形变;
反射层,返回相应的反射电磁波信号,且可发生与所述感光层对应的形变。
4.根据权利要求3所述的成像方法,其特征在于,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括:
向监测模型发送所述反射电磁波信号,所述监测模型的训练样本包括预先获得的反射电磁波信号与感光层的形变参数之间的数据对;
接收所述监测模型输出的感光层的形变参数;
根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息。
5.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于:
至少两个所述成像子区的形变属性不同;
和/或,至少两个所述成像子区的电磁波信号反射特性不同。
6.根据权利要求3所述的成像方法,其特征在于,所述感光层和所述反射层的形变包括形状变化、面积变化、密度变化、光滑程度变化中至少之一。
7.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于,根据所述光线信息形成预览图像,确定至少一个ROI区域,包括以下方法中至少之一:
根据预览图像的细节丰富程度确定ROI区域;
根据预览图像的边缘检测数据确定ROI区域;
根据预览图像的亮度和/或颜色的频率和/或颜色的梯度确定ROI区域。
8.根据权利要求1所述的成像方法,其特征在于,控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动,包括:
为至少一个所述成像子区施加外场;
利用所述外场向所述成像子区施加作用力,以使所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动。
9.根据权利要求8所述的成像方法,其特征在于,所述外场包括:磁场、电场、光场中至少之一。
10.一种成像装置,其特征在于,包括:
获取单元,获取反射电磁波信号,所述反射电磁波信号由图像传感器中的成像子区对电磁波信号反射形成;其中,所述图像传感器包括若干成像子区,所述成像子区可在入射光线的照射下发生形变;
处理单元,根据所述反射电磁波信号确定所述入射光线的光线信息,包括,利用所述反射电磁波信号获取所述成像子区在所述入射光线下的形变参数,根据所述形变参数确定所述入射光线的光线信息,其中,所述光线信息包括:入射光线的强度、颜色、极化方向中至少之一;
确定单元,根据所述光线信息形成预览图像,确定至少一个ROI区域;
执行单元,控制所述成像子区在垂直于入射光线的方向上朝所述区域运动,以增加所述成像子区在所述区域的分布密度。
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