[发明专利]清洁刮刀和成像装置在审
| 申请号: | 201710752953.7 | 申请日: | 2017-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN107797428A | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
| 发明(设计)人: | 由德大介 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 朱巧博 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洁 刮刀 成像 装置 | ||
1.一种清洁刮刀,所述清洁刮刀构造成接触清洁目标部件并且清洁该清洁目标部件的表面,清洁刮刀包括构造成与清洁目标部件接触的接触表面,
其中,清洁刮刀形成为使得:
(i)沿着清洁刮刀的厚度方向在接触表面内侧的峰值位置处清洁刮刀的杨氏模量达到峰值,以及
(ii)适用关系式Ym>Yc>Yb,其中,Yc是接触表面处的杨氏模量的值,Ym是峰值位置处的杨氏模量的峰值,Yb是在厚度方向上与峰值位置相比离接触表面更远的位置处的杨氏模量的值。
2.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Yb是在与接触表面相对的表面处的杨氏模量的值。
3.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Yc处于大于等于100MPa且小于等于600MPa的范围内。
4.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Yc处于大于等于200MPa且小于等于400MPa的范围内。
5.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Ym处于大于等于400MPa且小于等于4000MPa的范围内。
6.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Yb小于等于100MPa。
7.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,峰值位置位于在厚度方向上离接触表面大于等于30μm且小于等于200μm的范围内。
8.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,峰值位置位于在厚度方向上离接触表面大于等于50μm且小于等于100μm的范围内。
9.根据权利要求1所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Yb是在与接触表面相对的表面处的杨氏模量的值,
峰值位置位于在厚度方向上离接触表面大于等于50μm且小于等于100μm的范围内,
杨氏模量Yc处于大于等于200MPa且小于等于400MPa的范围内,
杨氏模量Ym处于大于等于400MPa且小于等于4000MPa的范围内,以及
杨氏模量Yb小于等于100MPa。
10.根据权利要求1至9中的任一项所述的清洁刮刀,其中,杨氏模量Y50与峰值位置处的杨氏模量Ym的比(Y50/Ym)小于等于0.5,其中Y50是在沿着厚度方向朝向与接触表面相对的一侧与峰值位置相比更远离接触表面50μm的位置处的杨氏模量的值。
11.根据权利要求10所述的清洁刮刀,其中,适用关系式Ym>Y20>Y50,以及
杨氏模量的第一平均改变率{(Ym-Y20)/20}大于杨氏模量的第二平均改变率{(Y50-Y20)/30},
其中Y20是在沿着厚度方向朝向与接触表面相对的一侧与峰值位置相比更远离接触表面20μm的位置处的杨氏模量的值。
12.根据权利要求1至9中的任一项所述的清洁刮刀,其中,沿着厚度方向清洁刮刀的从接触表面至与峰值位置相比离接触表面更远的位置的范围包括聚氨酯橡胶,并且聚氨酯橡胶包含异氰脲酸酯基团。
13.一种成像装置,包括:
可旋转的图像承载部件,所述图像承载部件构造成承载调色剂图像;以及
根据权利要求1至9中的任一项所述的清洁刮刀,所述清洁刮刀设置成从相反方向与图像承载部件接触,并且构造成清洁粘着在图像承载部件上的材料。
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