[发明专利]一种照明系统、曝光装置和曝光方法

权利要求书

1.一种照明系统，包括照明光源、照明光调整装置以及中继镜组，其特征在于，在所述照明光调整装置中设置补偿光源装置，所述补偿光源装置为LED光源阵列，由若干个可单独控制调节的LED光源组成，所述照明光调整装置依次包括曝光快门、能量差异性补偿器、匀光耦合单元、石英棒以及位于石英棒两侧的LED光源阵列，所述石英棒用于产生特定曝光视场，所述LED光源阵列用于补偿所述特定曝光视场产生的非对称热像差，所述照明光源发出照明光，所述补偿光源装置发出补偿光，所述照明光汇合所述补偿光经过所述中继镜组到达掩膜版；所述补偿光不参与成像且不与光刻胶发生反应。

2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述照明光源与所述补偿光源装置交替照射。

3.如权利要求2所述的照明系统，其特征在于，所述补偿光源装置包括若干个可单独控制开闭的补偿光源，所述补偿光源发出的光的波段与照明光源发出的光的波段不同。

4.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述特定曝光视场为矩形视场。

5.如权利要求4所述的照明系统，其特征在于，所述LED光源阵列具有至少两列LED光源，分别位于石英棒的两侧。

6.如权利要求4所述的照明系统，其特征在于，每个所述LED光源的芯片尺寸为1mm×1mm，发散角度设置为5°，功率为1W。

7.如权利要求4所述的照明系统，其特征在于，所述LED光源为红外波段光。

8.一种使用如权利要求1～7中任一项所述的照明系统的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还依次包括掩模板、光刻投影物镜以及基底，所述掩模板位于所述照明系统一侧，所述照明系统提供的照明光依次穿过掩模板、光刻投影物镜到达基底上。

9.一种使用如权利要求8所述的曝光装置的曝光方法，其特征在于，在曝光过程中，使用照明光源和补偿光源装置进行交替照明。

10.如权利要求9所述的曝光方法，其特征在于，在照明光源和补偿光源装置之间设置曝光快门，在曝光时间，打开曝光快门，使用照明光源进行照明曝光；在非曝光时间，关闭曝光快门，仅使用补偿光源装置照明。