[发明专利]气体净化装置有效
申请号: | 201710726195.1 | 申请日: | 2017-08-22 |
公开(公告)号: | CN107519729B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 陈武成 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | B01D53/04 | 分类号: | B01D53/04;B01D47/06 |
代理公司: | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人: | 梁挥;孟超 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 净化 装置 | ||
一种气体净化装置包含壳体、第一净化室、第一承接槽、第二净化室、第二承接槽、多孔性组件、第一净化材、第一喷淋装置、第二净化材及第二喷淋装置。壳体包含进气口及排气口。第一净化室外侧、第一承接槽及壳体间形成第一排风道。第一净化室的顶部及底部分别连通进气口及第一排风道。第二净化室外侧、第二承接槽及壳体间形成第二排风道。第二净化室的顶部及底部分别连通第一排风道及第二排风道,第二排风道连通排气口。多孔性组件设置于第二净化室顶部。第一喷淋装置及第一净化材位于第一净化室、第二喷淋装置及第二净化材位于第二净化室。
技术领域
本发明涉及气体净化领域,尤其涉及一种气体净化装置。
背景技术
在工业的场域中,随着对于产品的规格越来越精密,对于工艺环境的要求也越来越严格。工艺环境的空气也是影响工艺品质的一个因素。因此,在工艺环境中通常会设置气体净化装置以维持工艺环境的空气品质。气体净化装置可以降低空气中悬浮微颗粒的浓度、气体中的含有酸碱值等不利于工艺或是工安的因素。
一般而言,净化气体的方式是将待处理的气体通入气体净化装置中含有吸附材料的腔室中,并进行喷洒清洗,通过清洗及吸附来净化气体。如果待处理气体通入腔室的风速过快或过慢、流量过大或过小,都可能影响了吸附材料的位置、或是吸附效果。例如,当通入待处理气体的风速过快,吸附材料若受到气流的扰动而导致偏移,从而使得吸附材料各处受到的气体压力不均,影响了气流的流通、进而影响了吸附效应及后续的产品品质。
另外,吸附材料本身的孔隙也影响了吸附的效果,例如,若是吸附材料过度潮湿,水气会残存于吸附材料的孔隙之中,降低了吸附材料的孔隙率降低,造成气体不易通过,从而减少了吸附材料的吸附能力,更降低了气体净化的效果。
发明内容
本案揭示的一态样关于一种气体净化装置。气体净化装置包含壳体、第一净化室、第一承接槽、第二净化室、第二承接槽、多孔性组件、第一净化材、第一喷淋装置、第二净化材、以及第二喷淋装置。壳体包含进气口及排气口。第一净化室位于壳体中,第一净化室的顶部连通进气口,第一净化室底部具有第一通孔。第一承接槽位于壳体中,且位于第一净化室的下方。第一净化室的外侧、第一承接槽、及壳体之间形成第一排风道,第一净化室通过第一通孔连通第一排风道。第二净化室位于壳体中,第二净化室的顶部连通第一排风道,第二净化室的底部包含第二通孔。第二承接槽位于壳体中,且位于第二净化室的下方。第二净化室的外侧、第二承接槽、及壳体之间形成第二排风道,第二净化室通过第二通孔连通第二排风道,第二排风道连通排气口。多孔性组件设置于第二净化室的顶部。第一净化材位于第一净化室中。第一喷淋装置位于第一净化室中,且位于进气口与第一净化材之间。第二净化材位于第二净化室中。第二喷淋装置位于第二净化室中,且位于多孔性组件与第二净化材之间。
综上所述,本发明实施例的气体净化装置,其适用于连续性净化气体,并且其能通过多孔性组件调整进气的风量及风速,藉以均匀净化材(第一净化材或/和第二净化材)受到的气体压力平均并且减少气流扰动,从而能够维持净化材不易偏移。此外,在本发明实施例的气体净化装置中,待处理气体进入各净化室(第一净化室和第二净化室)的进气方向与洗涤液的喷淋方向一致,能使各净化室中淋洗后的洗涤液顺利排出净化材,以使净化材易于干燥,从而避免净化材的孔隙中残存洗涤液而降低吸附效果。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。
附图说明
通过参照附图进一步详细描述本发明的示例性实施例,本发明的上述和其他示例性实施例,优点和特征将变得更加清楚,其中:
图1为气体净化装置第一实施例的剖视示意图;
图2为气体净化装置第二实施例的剖视示意图;
图3为气体净化装置第三实施例的剖视示意图;
图4为气体净化装置第四实施例的剖视示意图;以及
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