[发明专利]一种用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统在审
| 申请号： | 201710706799.X | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN109407289A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 周军;甄政;欧文;李娟;李昂;王英瑞 | 申请（专利权）人： | 北京遥感设备研究所 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G01J5/00 |
| 代理公司： | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人： | 姜中英 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 探测器窗口 次反射镜 主反射镜 透镜组 远距离 光学系统 中间像面 低辐射 焦平面 反式 反射 成像 探测 透镜 热辐射能量 等效黑体 入射光束 探测平台 凹面 杜瓦 后段 凸面 制冷 会聚 照射 聚焦 压缩 辐射 响应 | ||
1.一种用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统，包括：主反射镜(1)和次反射镜(2)，其特征在于还包括：探测器窗口(3)和透镜组(4)；其中主反射镜(1)、次反射镜(2)和探测器窗口(3)组成前段成像部分，透镜组(4)组成后段成像部分。
2.根据权利要求1所述用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统，其特征在于：用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统工作时，入射光束首先照射至主反射镜(1)的凹面，然后反射至次反射镜(2)的凸面，再反射后进入探测器窗口(3)，经探测器窗口(3)会聚为中间像面，中间像面再依次经过杜瓦内部透镜组(4)的三个透镜后聚焦到焦平面(6)，为保证系统的低辐射功能，主反射镜(1)、次反射镜(2)反射面反射率大于99.2％，光学系统工作时，以焦平面(6)接收到的系统自身热辐射能量计算得到的等效黑体辐射温度低于180K。
3.根据权利要求1所述用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统，其特征在于：主反射镜(1)、次反射镜(2)和探测器窗口(3)位于探测器外且工作温度为常温，透镜组(4)置于探测器杜瓦内且工作温度为80K。
4.根据权利要求1所述用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统，其特征在于：前段成像部分中，主反射镜(1)为抛物面结构，次反射镜(2)为高次非球面结构，探测器窗口(3)为弯月形透镜结构，探测器窗口(3)两个表面均为球面。
5.根据权利要求1所述用于远距离低背景探测的折反式低辐射光学系统，其特征在于：后段成像部分中，透镜组(4)包含三片单晶锗高次非球面透镜，其中第二片透镜为探测器的冷光阑(5)。
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