[发明专利]一种中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法

权利要求书

1.一种中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法，其特征在于具体步骤为：

构建包括：光线追迹模块、光线窗口分布模块、探测器窗口遮挡模块和背景辐射分析模块的光学成像系统背景辐射抑制仿真系统；

光线追迹模块完成不同视场下的目标光线追迹；

光线窗口分布模块计算目标光线在探测器窗口分布；

探测器窗口遮挡模块计算探测器需要遮挡的区域范围；

背景辐射分析模块计算对探测器窗口遮挡前后背景辐射抑制比例；

至此实现了中心遮拦的光学成像系统背景杂散辐射的降低，

其中，不同视场的目标光线轨迹最终要落入到探测器窗口表面，所述的光线窗口分布模块计算目标光线落入到探测器窗口表面的空间分布，对光线落点根据8领域就近原则连接，得到内层光线空间轮廓为P(x,y)；

并且其中，探测器窗口遮挡模块计算目标光线没有落入到探测器窗口的区域面积，以探测器窗口中心(0，0)为原点计算与内层空间轮廓P(x,y)的距离，具体公式如下：

其中，0xR,0yR，R为探测器窗口的半径，D(,xy)为轮廓边缘的每一个点P(x,y)到探测器中心的距离，从所有的D(,xy)中选择最小距离值d，以最小距离值d为半径的圆形面积S作为探测器窗口遮挡区域范围：

S＝π×d² (2)。

2.根据权利要求1所述的中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法，其特征在于：假设目标为一个无穷远的物体，目标光线到光学系统前面是一群平行光线，所述的光线追迹模块分别分析中心、半视场、全视场三种情况下目标光线入射到光学系统后的光线轨迹走向。

3.根据权利要求1所述的中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法，其特征在于：背景辐射分析模块计算光学成像系统在探测器窗口无遮挡前的背景辐射Q1和探测器窗口遮挡S面积后发热背景辐射Q2；光学成像系统背景辐射降低的比例关系如下：

由于探测器窗口遮挡S面积后目标光线没有造成损失，依然是100％，而光学系统背景辐射得到抑制，背景辐射降低至原来的100％-k。