[发明专利]用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液及退镀工艺

说明书

本发明公开了一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液及退镀工艺，涉及玻璃退镀技术领域，退镀液按质量百分含量包括如下组分：EDTA四钠15～35％，聚氨基酸1～5％，阴离子表面活性剂0.5～2％，其余为水。该退镀工艺使用上述退镀液对玻璃产品NCVM膜层进行退镀。本发明缓解了传统对于NCVM膜层的退除采用的强碱性退镀液容易对曝光显影后的感光油墨造成伤害，产品良率低的技术问题。本发明的退镀液不仅能够干净地退除NCVM膜层，退镀效果好，而且不会对曝光显影后的感光油墨造成伤害，使用该退镀液退镀后的玻璃产品外观良好，良率高。

技术领域

本发明涉及玻璃退镀技术领域，具体而言，涉及一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液及退镀工艺。

背景技术

随着社会的进步，2D、2.5D或3D玻璃已经应用于各种电子产品上，成为一种时尚，与传统塑料和金属手机电池盖相比，2D、2.5D或3D玻璃有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、耐刮伤和耐候性等优点。目前退镀工艺作为一种新型的作业方式在玻璃上得到了很好运用，该工艺不仅可以得到优美精密的图案，而且该图案没有凹凸感、质地细密。

NCVM(Non-Conductive Vacuum Metalize，真空不导电电镀)为一种非导电的真空金属化镀膜制程，NCVM采用特殊金属，采用该工艺不仅使镀上的薄膜具有金属光泽，而且该薄膜具备非导电性质，缓解了传统工艺所镀的薄膜导电性好，容易干扰信号的缺陷。NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜(五氧化三钛、氧化铟等氧化物薄膜)，利用各相不连续之特性，达到最终产品外观有金属质感且不影响到无线通讯传输的效果。

NCVM已经应用于电子设备的玻璃产品上，将NCVM产品镀膜后选择性去掉一部分，从而赋予镀膜层图案化效果，玻璃产品相应的加工工艺流程为：产品清洗—电镀NCVM—感光油墨—曝光—显影—退镀—清洗—检验。通过NCVM在玻璃产品上镀上NCVM膜层(五氧化三钛、氧化铟等氧化物薄膜)，然后在NCVM膜层上喷涂一层带有图案的感光油墨进行曝光、显影后再对NCVM膜层进行去除。传统对于NCVM膜层的退除采用的是强碱性的退镀液，但使用这类退镀液进行退镀容易对曝光显影后的感光油墨造成伤害，影响产品外观质量，不能满足需求，且目前的退镀工艺生产效率低、产品的良率不稳定。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液，该退镀液不仅能够干净地退除NCVM膜层，退镀效果好，而且不会对曝光显影后的感光油墨造成伤害，使用该退镀液退镀后的玻璃产品外观良好，良率高。

本发明的目的之二在于提供一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀工艺，该工艺使用上述退镀液对玻璃产品的NCVM膜层进行退镀，具有与上述退镀液相同的优势，使用该退镀液不会对曝光显影后的感光油墨造成伤害，退镀后的玻璃产品外观良好，良率高。此外，该退镀工艺操作简单、工艺稳定，得到的产品良率稳定。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液，所述退镀液按质量百分含量包括如下组分：EDTA四钠15～35％，聚氨基酸1～5％，阴离子表面活性剂0.5～2％，其余为水。

优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述退镀液按质量百分含量包括如下组分：EDTA四钠20～30％，聚氨基酸2～4％，阴离子表面活性剂0.5～1.5％，其余为水。

优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述退镀液按质量百分含量包括如下组分：EDTA四钠25～30％，聚氨基酸2～4％，阴离子表面活性剂1～1.5％，其余为水。

一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀工艺，使用上述的退镀液对玻璃产品进行退镀。

进一步，在本发明提供的技术方案的基础上，退镀时退镀温度为75～85℃，退镀时间为15～25min。