[发明专利]一种棉花纳米纤维素晶须复合树脂材料及制备方法

权利要求书

1.一种棉花纳米纤维素晶须复合树脂材料，其特征在于，所述复合树脂材料包括树脂基质及经表面疏水改性的棉花纳米纤维素晶须，所述树脂基质包括Bis-GMA、TEGDMA、CQ及4EDMAB的混合物；

所述经表面疏水改性的棉花纳米纤维素晶须的添加量为树脂基质质量的1％-2％；所述表面疏水改性为KH570硅烷偶联剂改性。

2.权利要求1所述复合树脂材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一、将乙醇溶液与KH570硅烷偶联剂混合，调节pH值为3-4，静置后得到KH570硅烷偶联剂-乙醇水溶液，在KH570硅烷偶联剂-乙醇水溶液中添加棉花纳米纤维素晶须进行恒温油浴反应，得到经表面改性的棉花纳米纤维素晶须前体物，将所述前体物干燥、粉碎；

步骤二、将Bis-GMA、TEGDMA、CQ及4EDMAB在避光条件下混合，得到树脂基质，将步骤一的产物与树脂基质在避光条件下混合，得到所述复合树脂材料。

3.如权利要求2所述复合树脂材料的制备方法，其特征在于，步骤一中乙醇溶液的质量分数为95％，KH570硅烷偶联剂的质量分数为乙醇溶液的2％。

4.如权利要求3所述复合树脂材料的制备方法，其特征在于，步骤一中棉花纳米纤维素晶须的添加量为：每100gKH570硅烷偶联剂-乙醇水溶液中添加1g干重的棉花纳米纤维素晶须。

5.如权利要求2所述复合树脂材料的制备方法，其特征在于，步骤一中恒温油浴的条件为60℃下反应3h。

6.如权利要求2所述复合树脂材料的制备方法，其特征在于，步骤二中Bis-GMA、TEGDMA、CQ及4EDMAB的混合比例为：49.5％、49.5％、0.2％及0.8％(w/w)。

7.如权利要求2所述复合树脂材料的制备方法，其特征在于，步骤二中步骤一的产物的添加量为树脂基质质量的1％-2％。