[发明专利]一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法

权利要求书

1.一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)曲面加工

用线切割方法将片状纯钛的一面加工成曲面，并对曲面进行机械研磨和抛光，获得具有一定光洁度的曲面，以备后续胶层的粘附；

(2)掩模板加工

根据所需制备微凸起阵列的形状和尺寸，设计一定掩模板的图案形状和尺寸，掩模板的加工采用0.2-0.4mm厚不锈钢薄片激光切割加工制得

(3)掩模曝光

在纯钛曲面表面涂覆耐蚀性光敏胶层，所述光敏胶由SU-8光刻胶中添加增黏剂制得，可防止在电化学刻蚀过程中胶层被化学反应产生的液流冲走，并将掩模板覆盖在曲面纯钛的表面，进行曝光处理；

(4)光刻胶层的显影

利用光线照射胶层，被照射和未被照射的胶层与显影液的反应不同，使有光线照射的胶层部分被腐蚀和溶解，而未照射胶层部分留下，形成凸起的位置；

(5)电化学侵蚀

将进行了光刻胶处理的曲面Ti片作为阳极，铂片作为阴极，以1M的NaBr水溶液作为电解液，进行电化学的腐蚀，所述阴极和阳极间的距离为60mm，施加的直流电源电压为6-15V，电化学腐蚀试验的时间为1-3min。

2.按照权利要求1所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)光敏胶层的厚度为10-20μm。

3.按照权利要求2所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)所述光刻胶可为其他粘性较好的光刻胶。

4.按照权利要求3所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)光敏胶中SU-8光刻胶和增黏剂的比例为9:1。

5.按照权利要求1所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：所述步骤(5)电化学腐蚀的条件为选用1M的NaBr水溶液作为电解液，施加的直流电源电压为6-15V之间，所述阴极和阳极间的距离为60mm，电化学腐蚀试验的时间为1-3min。

6.按照权利要求5所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：所述步骤(5)电化学腐蚀后Ti片微凸起高度最高140μm，凸起尺寸100-300μm。

7.按照权利要求1所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法，其特征在于：所述步骤(5)电化学腐蚀后Ti表面存在一些纳米级的粗糙结构。