[发明专利]显影液稀释系统

说明书

技术领域

本发明属于显影液技术领域，尤其涉及一种显影液稀释系统。

背景技术

电子电路装置的制造厂商在精细加工过程中常用到光刻工序，光刻工序中使用的光刻胶材料常用到通过曝光可溶解的正型光刻胶，常用的正型光刻胶材料是2.38％浓度的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液，TMAH水溶液已被大量的用于显影装置中。

近年来，电子电路印刷、构图的高密度化，要求构图宽度微细，这就对显影工序中对光刻胶用的显影液的质量提出了高要求，为了获得高分辨率、构图的清晰度(锐敏度)、稳定性及高合格率，必须要严格的管理显影液的成分及浓度，例如，在TMAH水溶液的情况下，要求在规定浓度的±1/2000以内。

目前，电子电路制造商要获得上述规定浓度的显影液主要有两种渠道，一种是向专业的显影液供应商采购已调配好浓度的显影液，通常稀释倍数为8-40倍左右，对于大批量的生产所需的大量的显影液，需要准备大型的容器盛放，运输成本也很高昂；另外一种是向供应商采购显影液原液后自己调配到规定的浓度，这种方式是目前主流的方式，节约了容器、运输成本，但是，这种方式所调配得到的显影液为了达到规定浓度，对显影液稀释提出了高要求，目前的做法是在一个调制槽内先将显影液的浓度稀释到一个初步值，再在此基础上进行精细调整，经过精细调整后符合规定浓度的显影液存储至容器中备用，稀释过程需要高精度的控制和高效的输出符合规定浓度的显影液，目前的技术难以达到这一要求。

发明内容

本发明的目的是提供一种显影液稀释系统，将显影液的稀释过程分为初步稀释和精确稀释两步，通过流量控制系统实行自动化控制，可以大幅提高生产效率，显影液的浓度控制更方便。

为实现本发明的目的，本发明提供了如下的技术方案：

第一方面，本发明提供了一种显影液稀释系统，包括原液和纯水供给管路；容纳和稀释所述原液和所述纯水的第一调制槽和第二调制槽，所述第一调制槽和所述第二调制槽之间通过第一管路连接，以使所述第一调制槽中稀释得到的第一显影液通过第一管路流向所述第二调制槽；用于测量所述第一显影液浓度的第一浓度计，用于测量所述第二调制槽中稀释得到的第二显影液浓度的第二浓度计；用于控制流量的控制组件，所述控制组件用于通过所述第一浓度计和所述第二浓度计输出的浓度值控制所述供给管路流入所述第一调制槽和所述第二调制槽的所述原液和/或纯水流量，所述第二调制槽与显影装置通过第二管路连接，以使所述第二显影液流向所述显影装置。

在第一方面的第一种可能的实现方式中，所述原液浓度范围为20％至100％，控制组件控制所述第一显影液的浓度范围为2.38％±0.005％，所述第二显影液的浓度范围为2.38％±0.003％。

结合第一方面及第一方面的第一种可能的实现方式，在第一方面的第二种可能的实现方式中，所述原液浓度为25％。

在第一方面的第三种可能的实现方式中，所述第一调制槽和所述第二调制槽内还安装有用于加强所述显影液稀释的搅拌装置。

在第一方面的第四种可能的实现方式中，还包括用于加速所述第一显影液向所述第二调制槽流动的第一液泵，用于加速所述第二显影液向所述显影装置流动的第二液泵，所述第一液泵和第二液泵设于相应所述第一管路和所述第二管路上。

在第一方面的第五种可能的实现方式中，所述第一浓度计设于所述第一管路的并行管路上，所述第二浓度计设于所述第二管路的并行管路上。

结合第一方面及第一方面的第一种至第五种可能的实现方式，在第一方面的第六种可能的实现方式中，所述第一浓度计和所述第二浓度计为超声波浓度计。

结合第一方面及第一方面的第一种至第五种可能的实现方式，在第一方面的第七种可能的实现方式中，所述第一调制槽和所述第二调制槽内还包括有液面高度测量装置。

第二方面，本发明提供了一种显影液稀释方法，包括以下步骤：

原液和纯水供给管路向第一调制槽供给所述原液和纯水；

所述原液和纯水在所述第一调制槽内混合稀释，得到第一显影液；

所述第一显影液通过第一管路流向第二调制槽；

第一浓度计和第二浓度计测量得到所述第一显影液和所述第二调制槽的第二显影液的浓度值；

根据所述第一浓度计和所述第二浓度计输出的所述第一显影液和所述第二显影液的浓度值，控制组件调整所述供给管路流向所述第一调制槽和所述第二调制槽的显影液和/或纯水流量，得到预定浓度的所述第一显影液和所述第二显影液。