[发明专利]连续性活性炭处理系统及控制方法和应用

权利要求书

1.一种连续性活性炭处理系统，其特征在于，包括连续性活性炭处理装置、用于储存新炭的新炭储槽、用于对连续性活性炭处理装置中的废炭进行收集的废炭储槽和控制器，所述新炭储槽和所述废炭储槽均位于所述连续性活性炭处理装置的一侧，所述新炭储槽和所述废炭储槽分别与所述连续性活性炭处理装置相连通；

其中，所述连续性活性炭处理装置，包括塔体以及设置在塔体内部的至少一段活性炭吸附区，所述活性炭吸附区内设有活性炭，所述活性炭吸附区采用挡板隔设形成；

所述塔体下部设有废液入口和活性炭出口，所述活性炭出口位于所述废液入口的下方，所述塔体上部设有处理液出口和活性炭入口，所述活性炭入口位于所述处理液出口的下方，废液从所述塔体底部的废液入口进入，以逆流的方式进入到活性炭吸附区内进行过滤，然后从所述塔体上部的处理液出口排出；

所述挡板上设有若干个第一水帽和第二水帽，所述第一水帽和所述第二水帽均包括中空导管、帽座和位于帽座上方的帽沿；

所述帽座包括底座和滤栅，所述底座与所述中空导管相连接，所述底座上开有导流孔，所述导流孔与所述中空导管相贯通；所述滤栅位于所述底座上并沿底座圆周方向均布，相邻的两个所述滤栅之间留有孔隙从而形成滤孔；

所述帽沿设置于所述滤栅上方，并与所述滤栅固定连接；

所述第一水帽的帽沿的横截面积大于或者等于所述帽座的横截面积，所述第二水帽的帽沿的横截面积小于所述帽座的横截面积；

废液通过所述第一水帽和第二水帽能够自下向上流动，所述第二水帽的滤孔大于所述活性炭的尺寸，使得所述活性炭能够通过所述第二水帽自上向下流动；

所述连续性活性炭处理装置、所述新炭储槽和所述废炭储槽分别与所述控制器电连接。

2.根据权利要求1所述的连续性活性炭处理系统，其特征在于，包括新炭计量槽，所述新炭计量槽位于所述新炭储槽的下方，所述新炭计量槽与所述新炭储槽相连。

3.根据权利要求1或2所述的连续性活性炭处理系统，其特征在于，所述新炭储槽的上方还设置有吊装装置，新炭通过所述吊装装置吊入到所述新炭储槽中。

4.根据权利要求1或2所述的连续性活性炭处理系统，其特征在于，所述连续性活性炭处理装置的侧面设置有塔梯。

5.一种连续性活性炭处理系统的控制方法，其特征在于，采用权利要求1-4任意一项所述的连续性活性炭处理系统，包括以下步骤：

(a)将新炭储槽中的新炭投入到连续性活性炭处理装置中，采用连续性活性炭处理装置对废液进行净化处理；

(b)待连续性活性炭处理装置中的部分活性炭接近或者达到吸附饱和后，将接近或者达到吸附饱和的活性炭从连续性活性炭处理装置中排出至废炭储槽，然后重复步骤(a)。

6.根据权利要求5所述的连续性活性炭处理系统的控制方法，其特征在于，步骤(a)中，在将新炭储槽中的新炭投入到连续性活性炭处理装置之前，还包括将新炭进行清洗除杂的步骤；

所述清洗除杂的步骤在所述新炭储槽中进行。

7.根据权利要求5所述的连续性活性炭处理系统的控制方法，其特征在于，步骤(a)中，所述新炭储槽中的新炭通过新炭计量槽计量后，投入到连续性活性炭处理装置中。

8.根据权利要求5-7任意一项所述的连续性活性炭处理系统的控制方法，其特征在于，包括如下步骤：

(a)将新炭储槽中的新炭进行清洗除杂，清洗除杂后的新炭通过新炭计量槽计量后，投入到连续性活性炭处理装置中，采用连续性活性炭处理装置对废液进行净化处理；

废液从连续性活性炭处理装置内部自下向上依次流过各段活性炭吸附区，与活性炭进行对流吸附，从而对废液进行净化处理；

(b)待连续性活性炭处理装置中的部分活性炭接近或者达到吸附饱和后，将接近或者达到吸附饱和的活性炭从连续性活性炭处理装置中排出至废炭储槽，然后重复步骤(a)进行补炭。

9.权利要求1-4任意一项所述的连续性活性炭处理系统或权利要求5-8任意一项所述的连续性活性炭处理系统的控制方法在废液处理中的应用。