[发明专利]一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液、其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201710611867.4 申请日: 2017-07-25
公开(公告)号: CN107300839B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 王溯;蒋闯 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;袁红
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 刻蚀 残留物 清洗 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种清洗液的制备方法,其特征在于,其包括下列步骤:将下述原料混合,即可;所述的原料包含下列组分:分散剂、氟化物、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺和水;其中,所述的分散剂为有机膦类分散剂;所述的有机膦类分散剂为氨基三甲叉膦酸、羟基乙叉二膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2-羟基膦酰基乙酸、双1,6亚己基三胺五甲叉膦酸、己二胺四甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸和多氨基多醚基甲叉膦酸中一种或多种;

所述的氟化物为氟化铵、四甲基氟化铵、三羟乙基氟化铵和氢氟酸中的一种或多种;

所述的有机溶剂为醚类溶剂和/或酮类溶剂;

所述的缓蚀剂为环己二胺四乙酸、亚氨基二乙酸、尿素和乙二胺四乙酸中的一种或多种;

所述的有机胺为异丙醇胺、三乙醇胺、六亚甲基四胺和五甲基二乙烯三胺中的一种或多种;

所述的有机胺的质量分数为5%-40%;

所述的分散剂的质量分数为2.5%-3.5%;

所述的缓蚀剂的质量分数为0.5%-10%。

2.如权利要求1所述的清洗液的制备方法,其特征在于,

所述的氟化物的质量分数为0.05%-20%;

和/或,所述的有机溶剂的质量分数为10%-65%。

3.如权利要求2所述的清洗液的制备方法,其特征在于,

所述的氟化物的质量分数为2.5%-15%;

和/或,所述的有机溶剂的质量分数为30%-50%;

和/或,所述的缓蚀剂的质量分数为0.5%-5%;

和/或,所述的有机胺的质量分数为13%-25%。

4.如权利要求3所述的清洗液的制备方法,其特征在于,

所述的氟化物的质量分数为3-10%;

和/或,所述的有机溶剂的质量分数为35-45%;

和/或,所述的缓蚀剂的质量分数为1%-3%;

和/或,所述的有机胺的质量分数为15%-20%。

5.如权利要求1所述的清洗液的制备方法,其特征在于,

所述水为去离子水、蒸馏水、纯水和超纯水中的一种或多种。

6.如权利要求5所述的清洗液的制备方法,其特征在于,

所述的醚类溶剂为丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚和乙二醇二乙醚中的一种或多种;

和/或,所述的酮类溶剂为丙酮、甲乙酮、咪唑烷酮、吡咯烷酮和咪唑啉酮中的一种或多种。

7.如权利要求6所述的清洗液的制备方法,其特征在于,

所述的咪唑烷酮为1,3-二甲基-2-咪唑烷酮;

和/或,所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮和/或羟乙基吡咯烷酮;

和/或,所述的咪唑啉酮为1,3-二甲基-2-咪唑啉酮。

8.如权利要求1-7任一项所述的清洗液的制备方法,其特征在于,所述的原料组分由分散剂、氟化物、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺和水组成;其中,所述的分散剂为有机膦类分散剂。

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