[发明专利]带电粒子束治疗装置有效

专利信息
申请号: 201710559969.6 申请日: 2017-07-11
公开(公告)号: CN109224317B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 上口长昭 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 带电 粒子束 治疗 装置
【说明书】:

一种能够缩短带电粒子束治疗所需的时间的带电粒子束治疗装置。照射部(2)具备在照射带电粒子束(B)的深度方向的规定的层即规定的位置扫描带电粒子束(B)的扫描电磁铁(6)。并且,控制部(7)如下控制照射部(2):以第1电流值照射带电粒子束(B)而进行扫描之后,并以不同于第1电流值的第2电流值照射带电粒子束(B)而进行扫描。通过这种结构,照射部(2)对于剂量较低的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较低的电流值来照射带电粒子束(B)。另一方面,照射部(2)对于剂量较高的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较高的电流值来照射带电粒子束(B)。如此,对于各区域能够以与剂量相符的电流值照射带电粒子束。

技术领域

本发明涉及一种带电粒子束治疗装置。

背景技术

一直以来,作为通过对患者的患处照射带电粒子束来进行治疗的带电粒子束治疗装置,例如已知有专利文献1中记载的装置。专利文献1中记载的带电粒子束治疗装置中,将被加速器加速的带电粒子束利用扫描用电磁铁扫描之后,照射到患者的患处。该带电粒子束治疗装置通过调整带电粒子束的扫描速度来调整对患处照射的带电粒子束的剂量。

专利文献1:日本特开2009-243891公报

在此,如上所述的带电粒子束治疗装置在带电粒子束的照射过程中不改变该带电粒子束的电流值而使其保持恒定。因此,为了避免对需要减少剂量的区域照射过多剂量的带电粒子束,配合最应将剂量调小的区域来设定带电粒子束的电流值。而且,对于其他区域,则通过延长照射带电粒子束的时间(例如,以光栅扫描方式调慢扫描速度,点扫描方式中延长点上的停留时间)来获得所需的剂量。

然而,存在如下问题:进行如上治疗的情况下,由于在剂量较高的区域需要长时间照射低电流(低剂量率)的带电粒子束而导致大幅延长照射时间,并导致延长治疗所需的时间。

发明内容

因此,本发明的目的在于提供一种能够缩短带电粒子束治疗所需的时间的带电粒子束治疗装置。

为了解决上述课题,本发明所涉及的带电粒子束治疗装置具备:加速器,将带电粒子加速并射出带电粒子束;照射部,向被照射体照射带电粒子束;射束传输线路,连接加速器与照射部,并将从加速器射出的带电粒子束传输至照射部;及控制部,控制照射部所进行的带电粒子束的照射,将被照射体在带电粒子束的照射深度方向上虚拟分割成多个层的情况下,照射部具备在各个层扫描带电粒子束的扫描部,控制部以在一个层以第1电流值照射带电粒子束而进行扫描之后,在该一个层以不同于第1电流值的第2电流值照射带电粒子束而进行扫描的方式控制照射部。

本发明所涉及的带电粒子束治疗装置中,照射部具备在一个层扫描带电粒子束的扫描部。并且,控制部如下控制照射部:在以第1电流值照射带电粒子束而进行扫描之后,以不同于第1电流值的第2电流值照射带电粒子束而进行扫描。通过这种结构,对于剂量较低的区域,照射部能够设定第1电流值及第2电流值中较低的电流值来照射带电粒子束。另一方面,照射部对于剂量较高的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较高的电流值来照射带电粒子束。如此,对于各区域能够以与剂量相符的电流值照射带电粒子束。由此,能够避免照射部将与剂量较低的区域相符的电流值的带电粒子束长时间照射到剂量较高的区域。通过以上结构,能够缩短带电粒子束治疗所需的时间。

并且,本发明所涉及的带电粒子束治疗装置中,控制部可以如下控制照射部:使以第2电流值扫描带电粒子束的第2区域包含与以第1电流值扫描带电粒子束的第1区域不同的区域。该情况下,第1区域与第2区域成为全部或局部不同的区域。因此,照射部能够将不同电流值的带电粒子束照射到不同的区域,因此与对同一部位照射不同电流值的带电粒子束的情况相比,照射时间的运算等变得容易。

并且,控制部可以对规定的位置根据至少设定有第1区域和第2区域的治疗计划图控制照射部,治疗计划图中,根据对规定的位置计划的带电粒子束的剂量分布设定有第1区域及第2区域。该情况下,根据治疗计划图的剂量分布设定第1区域及第2区域,从而能够容易设定各区域。

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