[发明专利]一种精密光学镜片收料装置在审

专利信息
申请号: 201710557113.5 申请日: 2017-07-10
公开(公告)号: CN107214671A 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 薛文英 申请(专利权)人: 苏州华徕光电仪器有限公司
主分类号: B25H3/00 分类号: B25H3/00
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司32224 代理人: 董建林
地址: 215153 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 精密 光学镜片 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种精密光学镜片收料装置,属于光学镜片设备技术领域。

背景技术

现有的产商在进行光学镜片的大量生产的时候,尤其是在眼镜镜片行业中,由于一般情况下,生产效率非常高,都是大批量大批量的生产,但是大量的产品在进行存储或者转运时,比较容易在这过程中对镜片本身造成损害,这样反而提高了整个生产的成本。

发明内容

为解决现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种精密光学镜片收料装置,能够提供合理的镜片存储设备,便于存放和运输,同时对于镜片的密封性以及安全性有极高的保障。

为了实现上述目标,本发明采用如下的技术方案:

一种精密光学镜片收料装置,其特征是,包括控制模块、机械抓手模块和存放装置;所述机械抓手模块包括第一机械手和第二机械手;所述控制装置与机械抓手模块相连接,用于控制第一机械手和第二机械手的运动;所述存放装置包括柱状主体、升降气缸和承载板模块;所述柱状主体的底部设置为环形圈;所述升级气缸设置在柱状主体的底部,与承载板模块的底部相接触;所述承载板模块包括若干个隔板;所述隔板与柱状主体的内径相匹配;所述隔板的顶面周边设置有环形凹槽,底面周边设置有环形凸起;所述环形凹槽与环形凸起相匹配;所述第一机械手用于抓取镜片;所述第二机械手用于抓取隔板。

进一步地,所述柱状主体的底面上设置有与所述环形凸起相匹配的凹槽。

进一步地,所述隔板的上下面上均设置有缓冲垫。

进一步地,所述环形凸起的高度大于环形凹槽与镜片的高度和。

进一步地,所述升降气缸连接有显示器;所述显示器用于显示当前升降气缸的运动距离。

进一步地,所述柱状主体还配有密封盖。

本发明所达到的有益效果:本装置适用于精密光学镜片的收料,通过隔板之间的相互配合,形成较为密封安全的环境,提高存储以及运输的安全性。

附图说明

图1是本装置的结构示意图;

图2是承载板模块的截面结构示意图。

图中附图标记的含义:

1-柱状主体,2-隔板,3-升降气缸,4-柱状主体的底面,5-环形凹槽,6-环形凸起。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

如图1所示,本装置包括控制模块、机械抓手模块和存放装置。

本实施例中,机械抓手模块包括第一机械手和第二机械手。其中,控制装置与机械抓手模块相连接,用于控制第一机械手和第二机械手的运动。第一机械手用于抓取镜片,第二机械手用于抓取隔板。机械抓手的配合属于现有技术,这里不做赘述。

存放装置包括柱状主体、升降气缸和承载板模块。柱状主体的底部设置为环形圈,升级气缸设置在柱状主体的底部,与承载板模块的底部相接触,并不相互固定。

承载板模块包括若干个隔板,隔板与柱状主体的内径相匹配,优选地是设置有1-2mm的间隙。隔板的顶面周边设置有环形凹槽,底面周边设置有环形凸起,环形凹槽与环形凸起相匹配,隔板之间形成上下相互卡接的结构,环形凸起的高度大于环形凹槽与镜片的高度和,这样镜片能够完全地放置在隔板与隔板形成的间隙中。

此外,柱状主体的底面上设置有与环形凸起相匹配的凹槽。升降气缸的顶部与最下层一个隔板相接触。升降气缸连接有显示器,显示器用于显示当前升降气缸的运动距离,也可以根据此运动距离,直接运算变成当前已经存放了镜片的个数。

使用时,当第一机械手抓取镜片后,第二机械手将隔板放置在柱状主体上,镜片被放置到隔板上,升降气缸进行运动,向下运动一定的距离,然后第二机械手再次将隔板放置在柱状主体上。升降气缸每次所下降的距离根据产品的厚度、隔板的高度,以及工作人员的经验值来进行设定。

不断地重复上述操作,能够合理快捷地将柱状主体内填满镜片。而且对于每一个柱状主体内当前镜片的个数,完全可以通过升降气缸的运动距离来迅速知晓,便于工作人员的统计。

本装置主要是用于针对较为精密的光学镜片,能够使得生产出来的精片产品单独有一个较为密封的存放环境,不仅仅有利于存放,而且在运输过程中也能够提供一个较为安全的环境。本装置中柱状主体还匹配有一个密封盖,对当前柱状主体满载后进行密封,从而可以整个将柱状主体作为一个后续存放或者运输的器具,便捷且成本低。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。

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