[发明专利]一种在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置

权利要求书

1.一种在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，在底座（8）上设置有透明水槽（6）和多路温度测试仪（7），透明水槽（6）内的左侧壁上设置安装有半导体制冷片（2）的半导体制冷片支架（1），半导体制冷片支架（1）和半导体制冷片（2）浸入透明水槽（6）内的水中，其特征在于：在半导体制冷片（2）与透明水槽（6）内右侧壁之间的前侧壁和后侧壁上依次设置有与透明水槽（6）内底部保持有距离的第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5），第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5）与水平面垂直，第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5）的水平中心线与半导体制冷片（2）的水平中心线在同一水平平面内。

2.根据权利要求1所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5）的高度为19～25cm。

3.根据权利要求1或2所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5）的高度由大到小排列或由小到大排列或相等。

4.根据权利要求1或2所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5）中高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽（6）内底面的距离至少为1cm，其余两块隔板下端面与透明水槽（6）内底面的距离大于或等于高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽（6）内底面的距离。

5.根据权利要求3所述的在水槽中同步建立不同线性梯度温度场的实验装置，其特征在于：所述的第一隔板（3）、第二隔板（4）、第三隔板（5）中高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽（6）内底面的距离至少为1cm，其余两块隔板下端面与透明水槽（6）内底面的距离大于或等于高度最大的一块隔板的下端面与透明水槽（6）内底面的距离。