[发明专利]一种氩气流量控制方法及控制系统

权利要求书

1.一种氩气流量控制方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1，向氩气喷管里输入氩气，将氩气喷管内残留的气体排除干净；

S2，持续向氩气喷管里输入氩气，输出高频电压点火，对氩气进行电离；

S3，点火完成后，向氩气喷管内输入流量值可调的氩气脉冲流，使氩气电离状态维持在火花放电状态，或者介于火花放电与电弧放电状态之间。

2.根据权利要求1所述的氩气流量控制方法，其特征在于：步骤S3中的流量值可调的氩气脉冲流为高流量和低流量交替变化的氩气流。

3.根据权利要求2所述的氩气流量控制方法，其特征在于：所述高流量为设定的氩气流量值，所述低流量介于零到二分之一高流量之间。

4.根据权利要求1-3任一项所述的氩气流量控制方法，其特征在于：所述氩气脉冲流频率介于1～10Hz之间，占空比介于10％～50％之间。

5.根据权利要求2所述的氩气流量控制方法，其特征在于：使氩气电离状态维持在火花放电状态，或者介于火花放电与电弧放电状态之间的方法为：

当氩气脉冲流为高流量时，高频电压对氩气进行充分电离，使火花放电加强，能量趋于集中，并有向电弧放电状态转变的趋势，此时，氩气流量减小为低流量，电离程度降低，抑制火花放电向电弧放电状态转变的趋势；

当低流量持续一段时间后，被电离的氩离子浓度降低，火花放电难以持续，此时氩气又恢复高流量输出；

如此往复，使氩气电离状态维持在火花放电状态，或者介于火花放电与电弧放电状态之间。

6.一种基于权利要求1-5任一项所述的氩气流量控制方法的氩气流量控制系统，其特征在于：包括氩气输入单元、氩气输出单元、流量调节单元、MCU控制单元、通信单元和电源单元，所述通信单元和MCU控制单元双向连接，所述MCU控制单元和所述流量调节单元双向连接，所述氩气输入单元输出端连接所述流量调节单元输入端，所述流量调节单元输出端连接所述氩气输出单元输入端，所述氩气输出单元输出端连接氩气喷管，向手术提供氩气输入，所述电源单元为该氩气流量控制器提供电源，所述MCU控制单元运行权利要求1-5之一所述的控制方法。