[发明专利]一种测量方法及装置

权利要求书

1.一种测量方法，其特征在于，应用于电子设备，包括：

当确定所述电子设备处于第一工作模式时，确定至少两个基准位置；

获取所述至少两个基准位置的坐标；

根据所述至少两个基准位置的坐标确定所述至少两个基准位置之间的距离；

当确定所述电子设备处于第一工作模式时，显示刻度尺，所述刻度尺显示有距离度量刻度；

当检测到有遮挡物覆盖所述电子设备的至少部分屏幕时，移动所述刻度尺，使得所述刻度尺与所述遮挡物的至少一端对齐。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定至少两个基准位置包括：

接收第一输入操作，根据所述第一输入操作确定第一基准位置；

接收第二输入操作，根据所述第二输入操作确定第二基准位置；

将所述第一基准位置和所述第二基准位置确定为至少两个基准位置。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定至少两个基准位置包括：

获取所述电子设备的非接触式传感器检测的输入信号的范围，根据所述输入信号的范围确定至少两个基准位置。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述非接触式传感器为光线感应传感器，所述获取所述电子设备的非接触式传感器检测的输入信号的范围，根据所述输入信号的范围确定至少两个基准位置包括：

获取所述电子设备的光线感应传感器采集的光强度信号，根据所述光强度信号确定所述电子设备中光强度发生变化或者光强度信号的变化大于第一设定阈值的区域，根据所述区域的坐标确定至少两个基准位置。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述非接触式传感器为距离传感器，所述获取所述电子设备的非接触式传感器检测的输入信号的范围，根据所述输入信号的范围确定至少两个基准位置包括：

获取所述电子设备的距离传感器采集的距离信号，根据所述距离信号确定所述电子设备中距离信号发生变化或者变化大于第二设定阈值的区域，根据所述区域的坐标确定至少两个基准位置。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定至少两个基准位置包括：

获取所述电子设备的压力传感器检测的压力信号的范围，根据所述压力信号的范围确定至少两个基准位置。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定至少两个基准位置包括：

确定三个基准位置，所述三个基准位置包括第一基准位置、第二基准位置、第三基准位置；

所述根据所述至少两个基准位置的坐标确定所述至少两个基准位置之间的距离包括：

根据所述第一基准位置与所述第二基准位置的坐标确定所述第一基准位置与所述第二基准位置之间的距离，根据所述第二基准位置与所述第三基准位置的坐标确定所述第二基准位置与所述第三基准位置之间的距离；

所述方法还包括：

根据所述第一基准位置与所述第二基准位置之间的距离以及所述第二基准位置与所述第三基准位置之间的距离确定面积参数。

8.一种测量装置，其特征在于，包括：

基准位置确定单元，用于当确定电子设备处于第一工作模式时，确定至少两个基准位置；

坐标获取单元，用于获取所述至少两个基准位置的坐标；

距离确定单元，用于根据所述至少两个基准位置的坐标确定所述至少两个基准位置之间的距离；

显示单元，用于当确定所述电子设备处于第一工作模式时，显示刻度尺，所述刻度尺显示有距离度量刻度；

移动单元，用于当检测到有遮挡物覆盖所述电子设备的至少部分屏幕时，移动所述刻度尺，使得所述刻度尺与所述遮挡物的至少一端对齐。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述基准位置确定单元具体用于：

接收第一输入操作，根据所述第一输入操作确定第一基准位置；接收第二输入操作，根据所述第二输入操作确定第二基准位置；将所述第一基准位置和所述第二基准位置确定为至少两个基准位置。