[发明专利]一种太阳能单晶硅片清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及太阳能单晶硅片技术领域，特别是一种太阳能单晶硅片清洗剂。

背景技术

在生产太阳能电池片过程中，为了提高太阳能电池的性能和效率，需要在硅片表面制作绒面，有效的绒面结构可以使得入射阳光在硅片表面进行多次反射和折射，改变入射光在硅中的前进方向。

目前，常规太阳能电池生产的工艺流程为表面预清洗、制绒去除损伤层并形成减反射的绒面结构，化学清洗并干燥；通过液态源扩散的方法在硅片表面各点形成均匀掺杂的PN结，去除扩散过程中形成的周边PN结合表面磷硅玻璃；表面沉积钝化和减反射膜；制作太阳电池的背面电极、表面电场合正面电极；烧结形成欧姆接触，从而完成整个电池片的制作过程。

发明内容

本发明需要解决的技术问题是提供一种成本低且清洗效果好的太阳能单晶硅片清洗剂。

为解决上述的技术问题，本发明的一种太阳能单晶硅片清洗剂，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾20-50份，表面活性剂15-20份，无水硅酸钠30-50份，二丙二醇甲醚10-15份，乙二胺四乙酸四钠盐13-18份，防腐剂10-30份，异构醇聚氧乙烯醚30-50份，水200-250份。

进一步的，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾20份，表面活性剂15份，无水硅酸钠30份，二丙二醇甲醚10份，乙二胺四乙酸四钠盐13份，防腐剂10份，异构醇聚氧乙烯醚30份，水200份。

进一步的，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾50份，表面活性剂20份，无水硅酸钠50份，二丙二醇甲醚15份，乙二胺四乙酸四钠盐18份，防腐剂30份，异构醇聚氧乙烯醚50份，水250份。

进一步的，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾30份，表面活性剂17份，无水硅酸钠35份，二丙二醇甲醚11份，乙二胺四乙酸四钠盐15份，防腐剂15份，异构醇聚氧乙烯醚35份，水220份。

进一步的，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾40份，表面活性剂19份，无水硅酸钠45份，二丙二醇甲醚13份，乙二胺四乙酸四钠盐17份，防腐剂25份，异构醇聚氧乙烯醚45份，水230份。

采用上述配方后，本发明的太阳能单晶硅片清洗剂从而使清洗剂清洗能力优异且持久耐用。综上所述，本发明的太阳能硅片清洗剂具有清洗能力优异、生物降解性能佳和低毒低刺激的优点。

具体实施方式

本发明的一种太阳能单晶硅片清洗剂，按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾20-50份，表面活性剂15-20份，无水硅酸钠30-50份，二丙二醇甲醚10-15份，乙二胺四乙酸四钠盐13-18份，防腐剂10-30份，异构醇聚氧乙烯醚30-50份，水200-250份。

实施方式一：

按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾20份，表面活性剂15份，无水硅酸钠30份，二丙二醇甲醚10份，乙二胺四乙酸四钠盐13份，防腐剂10份，异构醇聚氧乙烯醚30份，水200份。

实施方式二：

按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾50份，表面活性剂20份，无水硅酸钠50份，二丙二醇甲醚15份，乙二胺四乙酸四钠盐18份，防腐剂30份，异构醇聚氧乙烯醚50份，水250份。

实施方式三：

按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾30份，表面活性剂17份，无水硅酸钠35份，二丙二醇甲醚11份，乙二胺四乙酸四钠盐15份，防腐剂15份，异构醇聚氧乙烯醚35份，水220份。

实施方式四：

按照质量份数计包括以下组分：氢氧化钾40份，表面活性剂19份，无水硅酸钠45份，二丙二醇甲醚13份，乙二胺四乙酸四钠盐17份，防腐剂25份，异构醇聚氧乙烯醚45份，水230份。

虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域熟练技术人员应当理解，这些仅是举例说明，可以对本实施方式作出多种变更或修改，而不背离发明的原理和实质，本发明的保护范围仅由所附权利要求书限定。