[发明专利]用于去除氧化物的清洗组合物及使用该清洗组合物的清洗方法

说明书

本公开内容涉及用于去除氧化物的清洗组合物和使用该清洗组合物的清洗方法，所述清洗组合物包括选自有机酸和无机酸的至少一种酸；选自有机盐和无机盐的至少一种盐；氧化剂；表面活性剂；以及水。

优先权要求

本申请参考于2016年6月24日向韩国知识产权局在先提交并在此依法指定序列号10-2016-0079293的申请以及于2016年10月27日向韩国知识产权局在先提交并依法指定序列号10-2016-0141171的申请，将所述申请并入本文，并且要求从所述申请获得的所有权益。

技术领域

一个或多个实施方案涉及用于去除氧化物的清洗组合物和使用该清洗组合物的清洗方法。

背景技术

有机发光装置(OLED)是具有宽视角、高对比度和短响应时间的自发射装置。此外，OLED表现出优异的亮度、驱动电压和响应速度特性，并且产生全色图像。

OLED可以具有其中第一电极、有机层和第二电极以这种规定的顺序堆叠在衬底上的结构。可以通过使用利用掩模的沉积法形成OLED的这种堆叠结构。换而言之，有机层可以通过使用诸如精细金属掩模(FMM)的金属掩模的沉积法进行精细图案化。然而，由于第一电极和第二电极不意欲进行精细图案化，所以可以通过使用开口掩模(open mask)的沉积法形成第一电极和第二电极。

通常，可以通过使用湿法蚀刻方法或激光方法处理掩模基底材料形成FMM。掩模可以在沉积法期间引入污染物，并且因此，需要掩模的清洗。在湿法蚀刻方法期间，可以通过用常规清洗溶液(例如蒸馏水或醇)冲洗掩模基底材料来去除杂质。

然而，当通过使用激光方法处理掩模基底材料时，通过常规清洗溶液不能去除在用激光照射掩模基底材料时自然形成的氧化物。因此，存在氧化物残留在掩模基底材料上的问题。

发明内容

一个或多个实施方案包括用于去除氧化物的清洗组合物，所述清洗组合物具有优异的清洗能力足以缩短清洗时间并维持长时间的清洗效果，同时不损坏掩模基底材料。

一个或多个实施方案包括通过使用所述用于去除氧化物的清洗组合物的清洗方法。

其它方面将在随后的描述中部分地阐述，并且部分地将从所述描述中变得显而易见，或可以通过呈现的实施方案的实践而获悉。

根据一个或多个实施方案，用于去除氧化物的清洗组合物包括：选自有机酸和无机酸的至少一种酸；选自有机盐和无机盐的至少一种盐；氧化剂；表面活性剂；以及水。

根据一个或多个实施方案，清洗方法包括：制备具有氧化物的掩模基底材料；以及通过使所述用于去除氧化物的清洗组合物与所述掩模基底材料接触而进行第一清洗以去除所述掩模基底材料的氧化物。

附图说明

当结合附图进行考虑时，通过参考以下详细描述，本发明的更加全面的理解及其所附带的许多优点将是易于显而易见的，同时也变得更好理解，附图中相同的参考标记表示相同或类似的组件，其中：

图1是根据制备实施例2制备的测试样品的照片，所述照片使用数码相机而拍摄并且显示出测试样品的经激光照射的一面；

图2至图11各自为根据示例实施方案清洗的测试样品的照片，所述照片使用数码相机而拍摄并且显示出测试样品的经激光照射的一面；以及

图12至图14各自为根据示例实施方案清洗的测试样品的图像，其中所述图像使用扫描电子显微镜而拍摄并且显示出测试样品的未经激光照射的一面。

具体实施方式