[发明专利]减压干燥设备

说明书

本发明提供一种减压干燥设备，包括密封腔室，所述密封腔室设置有承载平台，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板，所述承载平台上还设置有温度调节模块，以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀；本发明能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。

技术领域

本发明涉及基板制造技术领域，尤其涉及一种减压干燥设备。

背景技术

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称薄膜晶体管液晶显示器)的基板制作过程中，真空减压干燥(Vacuum Dry，简称VCD)是一道重要的工序。真空减压干燥是对涂布有光致抗蚀剂等膜层的涂覆液的基板进行减压干燥处理，使得膜层固化。

完整的光刻工艺通过光刻胶涂覆制程，曝光制程，显影制程三个主体步骤，完成基板上精密图形的定义。在涂覆制程后的减压干燥工序中，将涂布有光刻胶的基板置于密封腔室内，密封腔室内抽真空，使得光刻胶溶剂达到饱和蒸汽压快速挥发，挥发汽体进而随气流被抽走，达到初步干燥光刻胶的目的。

现有技术的减压干燥设备，抽真空时，基板上方气流从中间往两侧移动，然而，中间区域受气流影响小，该区域光刻胶容易发生干燥不足的现象，基板表面的光刻胶干燥均一性不足会降低显影精度，进而导致产品特征线宽(CD)均一性不满足要求，进一步会影响显示面板的显示效果。

综上所述，现有技术的减压干燥设备，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶干燥不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质。

发明内容

本发明提供一种减压干燥设备，能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，包括：

密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；

气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；

承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及：

温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；

其中，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。

根据本发明一优选实施例，所述温度调节模块分布于所述承载平台上，并且，所述温度调节模块分布在所述承载平台中心区域的密度，大于所述温度调节模块分布在其余区域的密度。

根据本发明一优选实施例，所述温度调节模块嵌设于所述承载平台内，并且，所述温度调节模块的加热子模块靠近所述承载平台的上表面，所述冷却子模块贴合于所述加热子模块的底部。

根据本发明一优选实施例，所述承载平台至少包括第一子平台与第二子平台，所述第一子平台与所述第二子平台位于同一高度；

所述第一子平台与所述第二子平台上均设置有所述温度调节模块。

根据本发明一优选实施例，位于所述第一子平台上的各所述加热子模块共同接入第一控制信号，位于所述第一子平台上的各所述冷却子模块共同接入第二控制信号；

位于所述第二子平台上的各所述加热子模块共同接入第三控制信号，位于所述第二子平台上的各所述冷却子模块共同接入第四控制信号。