[发明专利]一种纳米材料处理设备

权利要求书

1.一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述纳米材料处理设备包括纳米材料舱、烧结炉和纳米材料吸收舱；

所述纳米材料舱连接有纳米材料输入管和雾化器；所述纳米材料舱与烧结炉之间通过导管连接；

所述纳米材料吸收舱包括中间隔板，所述中间隔板的底部与纳米材料吸收舱的底部固定连接，且中间隔板的顶部与纳米材料吸收舱的顶部之间设置有一段距离；所述中间隔板的两侧分别设有一级清洗池和二级清洗池；所述一级清洗池与烧结炉之间通过导管连接；

所述一级清洗池内有一级清洗液，且一级清洗池内设有一级进气通道、一级混合腔和一级混合装置；所述一级进气通道的上端延伸至纳米材料吸收舱的顶部；所述一级进气通道的一端与所述一级清洗池与烧结炉之间的导管相通，另一端与一级混合腔相通；所述一级混合腔的开口方向向下，且所述一级混合腔的底部与纳米材料吸收舱的底部之间设置有一段距离，所述一级混合装置位于一级混合腔内；

所述二级清洗池内有二级清洗液，且二级清洗池设有二级进气通道、二级混合腔和二级混合装置；所述二级进气通道的上端延伸至纳米材料吸收舱的顶部；所述二级进气通道的一端与所述一级清洗池相通，另一端与二级混合腔相通；所述二级混合腔的开口方向向下，且所述二级混合腔的底部与纳米材料吸收舱的底部之间设置有一段距离，所述二级混合装置位于二级混合腔内；所述二级清洗池的侧壁上设有出气口，所述出气口连接有导管和抽气泵，所述出气口位于二级清洗液的液面上方。

2.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述纳米材料舱是一个下端部为圆锥状的柱状罐体，所述雾化器设置于纳米材料舱的上端。

3.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述纳米材料舱的底部与烧结炉顶部之间通过导管连接；所述烧结炉的底部与纳米材料吸收舱中一级清洗池的顶部之间通过导管连接；所述导管上设有抽气泵。

4.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述一级混合装置和二级混合装置均为混合叶轮。

5.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述一级清洗池与二级清洗池之间设有干燥层；所述二级清洗池与出气口之间设有干燥层。

6.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述一级清洗液为强酸液，所述二级清洗液为中和液，所述二级清洗池中设置有酸碱度探测器，所述二级清洗池的侧壁设有碱液增加装置；所述碱液增加装置包括碱液储存容器，所述碱液储存容器内有碱性液体，所述碱液储存容器与二级清洗池之间通过碱液输送管连接，所述碱液输送管上设有碱液泵。

7.根据权利要求6所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述碱液输送管为向下倾斜状。

8.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述烧结炉与纳米材料舱之间的导管上设有支管和加热器，所述支管层层环绕在烧结炉的外壁上，且分别与所述加热器的两端相连接；所述烧结炉与纳米材料吸收舱之间的导管上设有加热器。

9.根据权利要求1所述的一种纳米材料处理设备，其特征在于，所述烧结炉内部设有开口向下的漏斗状纳米材料输出口，所述纳米材料输出口与所述烧结炉进气口的导管相通，所述纳米材料输出口的下端设有盘状烧结板，所述盘状烧结板的内表面粗糙不平，外表面紧贴设有加热板。