[发明专利]一种抗刮痕全息存储卡

权利要求书

1.一种抗刮痕全息存储卡，其特征在于，包括：第一基片层、粘结胶层和第二基片层；所述粘结胶层粘附在所述第一基片层和第二基片层之间；所述第一基片层和粘结胶层相接的一面上涂覆固化有光致聚合物层；所述粘结胶层和第二基片层的尺寸大于所述第一基片层的尺寸；

所述光致聚合物层的制备方法包括如下步骤：

（1）称取原料：按重量份称取双酚A二缩水甘油醚60～80份、五乙烯六胺20～30份、苯基甲基丙烯酸酯30～35份、引发剂0 .1～0 .5份、纳米二氧化硅5～10份；

（2）原料混合：在常温条件下，将步骤（1）中称取的双酚A二缩水甘油醚、五乙烯六胺和纳米二氧化硅加入搅拌反应器中搅拌混合均匀，然后再加入称好的苯基甲基丙烯酸酯和引

发剂，接续搅拌混合至均匀；

（3）超声分散：将步骤（2）中混合均匀的原料置于超声仪中，室温下超声分散15～20min，得到聚合物溶液；

（4）涂膜：将步骤（3）中超声分散后的聚合物溶液在基片上涂敷成一定厚度；

（5）真空干燥：将步骤（4）中涂覆后的基片置于真空干燥箱中，在一定条件下干燥固化，得到所述光致聚合物层。

2.根据权利要求1所述的抗刮痕全息存储卡，其特征在于，所述第一基片层和第二基片层为聚碳酸酯层。

3.根据权利要求1所述的抗刮痕全息存储卡，其特征在于，所述第一基片层和第二基片层为光学玻璃层，所述光学玻璃层上涂覆固化所述光致聚合物层的一面上还涂覆有一层聚碳酸酯。

4.根据权利要求1所述的抗刮痕全息存储卡，其特征在于，所述光致聚合物层为环氧树脂光致聚合物膜。

5.根据权利要求1所述的抗刮痕全息存储卡，其特征在于，所述步骤（4）中，所述厚度为180～220nm；所述步骤（5）中，所述真空干燥的条件为：真空度0.003～0.005 MPa、40～60℃，时间20~40h。