[发明专利]一种TFT玻璃基板减薄处理工艺

说明书

技术领域

本发明涉及TFT玻璃基板技术领域，具体涉及一种TFT玻璃基板减薄处理工艺。

背景技术

目前移动终端轻薄化要求日益高涨，智能手机、平板电脑等新兴消费类电子产品的显示屏往往只有0.4mm-0.6mm厚度。TFT设备很难处理0.3mm以下的基板玻璃，而传统的TFT一般在0.5mm左右，加上中间填充液晶一般达到1.0mm-1.4mm左右，满足显示器件轻薄化需求最经济实惠的方法只能通过化学或物理方法进行玻璃减薄。行业内使用的TFT玻璃基板薄化液主要成分为HF(氢氟酸)和纯水、浓度在8％-15％之间，玻璃表面蚀刻效果不佳，其表面划伤被放大、凹点及凸点比较难以控制，且氢氟酸具有剧毒，生产过程对操作员工的危害性较大，废水、废弃物处理困难，使用一到两次之后，蚀刻液中会产生大量的粘稠粉末体，影响蚀刻液的利用率，且氢氟酸具有剧毒，生产过程对操作员工危害性较大。

发明内容

本发明旨在提供了一种TFT玻璃基板减薄处理工艺。

本发明提供如下技术方案：

一种TFT玻璃基板减薄处理工艺，包括以下步骤：

(1)对TFT玻璃基板进行外观检查,用UV胶水对TFT玻璃基板四边进行封边处理,用UV固化机固化UV胶水,清洗并去除边缘溢胶；

(2)对TFT玻璃基板表面进行清洗，放入槽内，用温度为30℃纯水浸泡8-12min，去除玻璃表面异物；

(3)用夹具把TFT玻璃基板放入蚀刻液的槽内，温度加热到30-32℃,对玻璃进行蚀刻处理2-3h；

(4)用夹具把蚀刻好的TFT玻璃基板放入清洗槽内，用纯水进行清洗，放入第一槽内，用温度为30℃纯水浸泡10-15min，再放入第二槽内用温度为45℃纯水浸泡5-8min，再进行品质检验、物理抛光，终检包装入库。

所述步骤(4)中纯水为超纯水，其纯度≥99.99％。

所述步骤(3)中蚀刻液为质量百分比为10-14％氢氟酸、9-16％氟化氢铵、8-14％硝酸、12-18％硫酸、15-22％盐酸、7-9％尿素。

所述步骤(3)中蚀刻液的槽内底部有用洁净空气将溶液循环搅动。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明用环保型玻璃蚀刻液能有效控制化学蚀刻过程中玻璃产生的凹点、划伤缺陷的放大，软化玻璃粉解决蚀刻过程中边缘凸起问题，且安全、稳定，有效满足TFT玻璃基板减薄品质要求，满足了客户的需求，同时大大降低了蚀刻液的毒性，生产员工操作更加安全可靠，而且本发明新型环保蚀刻液在过滤后可以循环使用，对TFT品质要求具有很大的改善，特别是对玻璃在生产过程中出现的玻璃表面划伤放大、凹点及凸点具有明显改善。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一种TFT玻璃基板减薄处理工艺，包括以下步骤：

(1)对TFT玻璃基板进行外观检查,用UV胶水对TFT玻璃基板四边进行封边处理,用UV固化机固化UV胶水,清洗并去除边缘溢胶；

(2)对TFT玻璃基板表面进行清洗，放入槽内，用温度为30℃纯水浸泡8-12min，去除玻璃表面异物；

(3)用夹具把TFT玻璃基板放入蚀刻液的槽内，温度加热到30-32℃,对玻璃进行蚀刻处理2-3h；

(4)用夹具把蚀刻好的TFT玻璃基板放入清洗槽内，用纯水进行清洗，放入第一槽内，用温度为30℃纯水浸泡10-15min，再放入第二槽内用温度为45℃纯水浸泡5-8min，再进行品质检验、物理抛光，终检包装入库。

所述步骤(4)中纯水为超纯水，其纯度≥99.99％。

所述步骤(3)中蚀刻液为质量百分比为10-14％氢氟酸、9-16％氟化氢铵、8-14％硝酸、12-18％硫酸、15-22％盐酸、7-9％尿素。

所述步骤(3)中蚀刻液的槽内底部有用洁净空气将溶液循环搅动。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。