[发明专利]高精密件表面研磨抛光机构在审

专利信息
申请号: 201710378219.9 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN107052991A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 曾德忠 申请(专利权)人: 深圳市德治鑫自动化设备有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34
代理公司: 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙)44276 代理人: 田志远,张朝阳
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 精密 表面 研磨 抛光 机构
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种研磨机,更具体的说,涉及一种高精密件表面研磨抛光加工机构。

背景技术

在现有技术中,对金属表面研磨、抛光技术是众多现行生产制品行业中所不可缺的工艺, 其工艺非常显著的特点是:能使粗糙级的产品表面通过研磨抛光技术处理后得到平整、光滑、光亮等的各种等级精度的表面产生。新型高精密件平面性研磨抛光是超精密平面抛光行业中一种重要加工方法,其优点是加工精度高,加工材料范围广。但传统研磨存在加工效率低、加工成本高、加工精度和加工质量不稳定等缺点,这使得传统研磨应用受到了一定限制。高精密件平面性研磨抛光解决了传统研磨存在的绝大部分缺点,提高了研磨技术水平,在保证平面研磨加工精度和加工质量达到了纳米级的同时,还显著降低加工成本,大大的提高生产效率,使高精密件平面性研磨抛光技术进一步实用化,有利于研磨技术的推广应用,促进了我国精密加工技术、新型先进性技术的进步,增强加工制造领域的竞争实力。在当前技术中,研磨机设备的料盘为手动上下料方式,对批量性产品的生产率不高;每次上取料都须连同治具盘本身进出,对产品表面保护极为不利,良率低;研磨工艺用的是法码下压,属自重型,所得出的研磨效果不成均匀;设备本身无护罩,操作时易脏污且安全性底,不环保。

发明内容

本发明的技术目的是克服现有技术中研磨抛光机生产效率低,研磨工艺用的是法码自身重量下压,所得出的研磨效果不成均匀的技术问题;提供一种通过步进电机的旋转调整研磨产品,可一次完成6片产品研磨抛光的高精密件表面研磨抛光机构。

为实现以上技术目的,本发明的技术方案是:

高精密件表面研磨抛光机构,包括有机架,所述机架上设有传动电机,所述传动电机通过传动皮带连接转动轴,所述转动轴下方设有设有抛光磨盘,所述机架上设有升降步进电机,升降步进电机的电机轴连接有升降丝杆,所述升降丝杆连接有抛光磨盘的升降螺孔;所述抛光磨盘下方设有一产品转盘,所述产品转盘上设有抛光产品; 所述产品转盘的转盘轴连接有分度圆盘,所述分度圆盘下方设有分割器,所述分割器连接有分度步进电机。

更进一步的,所述转动轴设于轴承套中,所述轴承套设于机架上。

更进一步的,所述转动轴与抛光磨盘之间设有法兰垫。

更进一步的,所述产品转盘上设有六边形分水板,所述六边形分水板的每一个边上各固定有一个抛光产品。

更进一步的,所述分度步进电机设于电机安装板上,所述电机安装板设于机架下方。

更进一步的,所述升降螺孔设于一滑块上,所述滑块滑动于滑轨上,所述滑轨设于机架上。

更进一步的,所述产品转盘上设有六角形凹槽,六角形凹槽中设有调节螺孔,调节螺孔中设有高度调节丝杆,高度调节丝杆上方固定有六边形分水板。

更进一步的,所述产品转盘的下方设有真空制动支座,所述真空制动支座的一侧设有真空制动气缸,真空制动气缸的前端设有摩擦片连接产品转盘下方。

本发明的有益技术效果是:既解决了传统加工工艺的弊端,机构上可以一模做6片产品,于圆盘分三等份均布阵列,采用跳步供料方式接连取放产品。传动电机安装于模盘之上,由上盘制动下盘旋转进行研磨,采用伺服电机进行增压向下运动,且轴中可以自动流出磨液进行研磨,由此得到产品良率高,效果佳,生产效率大;六边形分水板可升降以适应不同产品的厚度; 采用微电脑控制达到智能化的有效成果,可以通过分度旋转对产品进行研磨抛光。

附图说明

图1是本发明一个实施例的结构示意图。

具体实施方式

结合图1,详细说明本发明的具体实施方式,但不对权利要求作任何限定。

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