[发明专利]群集式磁流变抛光头

说明书

本发明涉及一种群集式磁流变抛光头，线圈支架沿抛光头支架周向均布，每个线圈支架中间的曲形横梁上缠绕线圈，线圈并与外界电源相连，形成所需的磁场，每两个线圈支架间设有一个磁流变液固转换通道，所述抛光头支架中间装有磁流变抛光头，磁流变抛光头上设有磁流变液喷头，磁流变液喷头与磁流变液通道连接，所述磁流变液通过磁流变液通道流入磁流变液喷头，由磁流变液喷头将磁流变液喷向磁流变液固液转换通道，在线圈通电形成所需的磁场作用下变为固体形成抛光平面，用于抛光光学元件。本发明结构简单，通过改变通电周期使两组磁流变液固液转换通道交替形成抛光平面，从而实现不间断抛光，增加抛光区域的接触面积，以提高抛光效率。

技术领域

本发明涉及一种抛光头，尤其涉及一种用于光学元件抛光的群集式磁流变抛光头，属于光学元件抛光技术领域。

背景技术

由于近几年来快速发展的先进科学技术，尤其是对光学领域，对一些光学元件的表面粗糙度和一些材料的表面质量要求越来越高，因此研究一种高效率和高精度的光学元件加工方法具有重要的实际意义。磁流变抛光作为一种新型的光学元件加工方法，通过磁场使抛光头和工件表面之间的磁流变液体的流变性能发生变化，在工件表面与磁流变液接触区域产生较大的剪切应力，从而使工件表面材料被去除。常规的磁流变抛光主要采用工件与抛光头之间的点接触实现材料的抛光去除，因此效率受到了一定的限制，为了进一步提高光学玻璃磁流变抛光效率，需要设计一种群集式磁流变抛光头，用于大幅度增加抛光区域的接触面积，以提高抛光效率。

发明内容

本发明的目的在于针对常规磁流变抛光头去除面积小的技术缺陷，提供一种可以实现面接触抛光的群集式磁流变抛光头。

为了实现上述目的，本发明的技术方案是：一种群集式磁流变抛光头，包括线圈支架、线圈、磁流变液喷头、抛光头支架、磁流变液通道、磁流变液固液转换通道、磁流变液、光学元件，所述线圈支架沿抛光头支架周向均布，每个线圈支架中间的曲形横梁上缠绕线圈，线圈并与外界电源相连，形成所需的磁场，每两个线圈支架间设有一个磁流变液固转换通道，所述抛光头支架中间装有磁流变抛光头，磁流变抛光头上设有磁流变液喷头，磁流变液喷头与磁流变液通道连接，所述磁流变液通过磁流变液通道流入磁流变液喷头，由磁流变液喷头将磁流变液喷向磁流变液固液转换通道，在线圈通电形成所需的磁场作用下变为固体形成抛光平面，用于抛光光学元件。

所述抛光头支架上均布有八个线圈支架，每个线圈支架通过内六角螺钉与抛光头支架固定连接。

所述磁流变抛光头上设有八个磁流变液喷头，八个磁流变液喷头分别对应八个磁流变液固液转换通道，八个磁流变液固液转换通道分成两组，每组包括四个磁流变液固液转换通道，当一组的磁流变液固液转换通道旁线圈通电，形成所需的磁场时，通过该组的磁流变液固液转换通道的磁流变液变变为固体形成抛光平面，而通过另一组的磁流变液固液转换通道旁线圈断电，通过该组的磁流变液固液转换通道的磁流变液变仍为流体，流出磁流变液固液转换通道，在正反通电周期条件下，两组磁流变液固液转换通道交替形成抛光平面，实现不间断抛光。

本发明的有益效果是：

本发明可实现不间断面抛光，不但提高了工件平面的出除量，还有利于获得更好面形和表面粗糙度的工件。

附图说明

图1为本发明的群集式磁流变抛光头结构剖视图；

图2为本发明的群集式磁流变抛光头结构局部俯剖视图；

图3为本发明的群集式磁流变抛光头工作原理图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的技术方案作进一步阐述。

如图1至图3所示，本发明的群集式磁流变抛光头，包括线圈支架1、线圈2、磁流变液喷头3、抛光头支架4、磁流变液通道5、内六角螺钉6、磁流变液固液转换通道7、磁流变液8、光学元件9、工作台10。