[发明专利]一种激光选区熔化专用可变成形体积式装置在审
申请号: | 201710353921.X | 申请日: | 2017-05-18 |
公开(公告)号: | CN107008904A | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
发明(设计)人: | 于承雪 | 申请(专利权)人: | 山东三迪时空三维科技有限公司 |
主分类号: | B22F3/105 | 分类号: | B22F3/105;B33Y30/00 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 264000 山东省烟台市经济技术*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 选区 熔化 专用 可变 成形 体积 装置 | ||
技术领域
本发明属于3D打印增材制造技术领域,具体涉及一种激光选区熔化专用可变成形体积式装置。
背景技术
由于激光选区熔化(SLM)技术在制备高性能高精度的复杂零件方面具有突出优势,因此受到越来越多的科技工作者和企业关注,已成为目前3D打印增材制造技术研究领域的重点之一。
目前,激光选区熔化成型设备主要以中型机为主,成型幅面较大,且以下部供粉为主。能够满足当前3D打印零件的使用需求。但是打印投影面积小、成形高度比较大的零件时,供粉缸需要装填很多金属粉末才能保证零件打完。这既浪费了成型基板的使用效率、减少了成型基板的使用寿命,同时,又增加了金属粉末的库存量。这大大增加了企业的生产成本和使用效率。尤其是科技工作者在研发3D打印新材料时,需要进行不同成分配比的材料测试,这就导致大量金属粉末材料的浪费,大大提高了科研成本。而小型激光选区熔化成型设备,成本高、成形幅面小、打印效率低,不能满足工业市场实际需求。而且采用小型机开发的材料工艺不能适用于中型机,仍然需要重新开发与中型机匹配的工艺参数。
发明内容
为了解决上述现有的技术问题,本发明的目的在于提供一种激光选区熔化专用可变成形体积式装置,既能够提高激光选区熔化成型设备中型机的有效利用率,又可以减少金属粉末材料库存和浪费,以满足市场各种应用需求。
为了实现上述目的,本发明提供以下技术方案:一种激光选区熔化专用可变成形体积式装置,包括平台固定板,平台固定板下方连接的内套缸,连接板,连接板上方固定的外套缸和支撑架,支撑架上方有小基板固定板。
优选地,所述可变成形体积式装置的平台固定板,与成型缸平台连接,且平台固定板上表面不高于成型缸平台的表面。
优选地,所述可变成形体积式装置的连接板,与成型缸基板连接,并随着成型缸基板的上下移动而运动。
优选地,所述可变成形体积式装置的内套缸和外套缸,两者之间有一定间隙,从而保证相对运动顺畅,最大间隙不超过0.2mm。
优选地,所述可变成形体积式装置的支撑架,连接有小基板固定板和小基板,随成型缸基板一起上下运动。
本发明的有益效果在于:本发明装置能够根据实际使用需求获得了相应的成形体积,提高了激光选区熔化成型设备大中型机的有效利用率,延长了大中型基板的使用寿命,降低了金属粉末材料库存。
附图说明
图1为本发明可变成形体积式装置的结构示意图;
图中:1-平台固定板,2-内套缸,3-外套缸,4-支撑架,5-连接板,6-成型缸基板,7-小基板固定板7,8-小基板,9-成型缸平台。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1,本发明提供一种技术方案:一种激光选区熔化专用可变成形体积式装置,包括平台固定板1,平台固定板1下方连接的内套缸2,连接板5,连接板5上方固定的外套缸3和支撑架4,支撑架4上方有小基板固定板7。
本发明的工作原理及改进在于:所述可变成形体积式装置的平台固定板1与成型缸平台9连接,且平台固定板1上表面不高于成型缸平台9的表面,所述可变成形体积式装置的连接板5与成型缸基板6连接,并随着成型缸基板6的上下移动而运动,所述可变成形体积式装置的内套缸2和外套缸3,两者之间有一定间隙,从而保证相对运动顺畅,最大间隙不超过0.2mm所述可变成形体积式装置的支撑架4,连接有小基板固定板7和小基板8,随成型缸基板6一起上下运动,从而能够根据实际使用需求获得了相应的成形体积,提高了激光选区熔化成型设备大中型机的有效利用率,延长了大中型基板的使用寿命,降低了金属粉末材料库存。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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