[发明专利]输送装置有效
申请号: | 201710342245.6 | 申请日: | 2017-05-16 |
公开(公告)号: | CN107129138B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 肖东辉 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03B35/14 | 分类号: | C03B35/14;C03B25/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 输送 装置 | ||
本发明提出了在显示技术领域中,应用在快速加热退火设备中的输送装置。该输送装置包括平台,还包括在所述平台的超像玻璃的一面上、相对设置在玻璃的两条相对边的外围的阻挡机构。阻挡机构能够防止玻璃相对于平台产生滑移,或使得滑移量保持在误差范围内,从而快速加热退火设备不会检测到玻璃的位置变动,避免了由此产生的自动停机和工作人员负荷量,同时也避免了玻璃由于滑移过大产生的碎裂,节省了成本。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体涉及输送装置,该输送装置用在快速加热退火设备中。
背景技术
目前,快速加热退火设备(Rapid Thermal Anneal,RTA)在低温多晶硅面板制程中的应用越来越多,如去氢、离子活化等。RTA设备包括上载单元、温度控制单元、快速降温单元、卸载单元、返回单元等处理单元。玻璃在进入RTA设备进行工艺处理时,首先在上载单元中被放置在输送平台上,由输送平台承载其依次进入温度控制单元、快速降温单元、卸载单元、等中进行退火处理并经过返回单元回到待整理区域。在对玻璃进行退火处理的过程中,玻璃一直放置在输送平台上,由输送平台带动玻璃进行运动。在运动过程中,当运动速度较大时,会出现由于输送平台与玻璃之间摩擦力不足而产生二者之间的相对位移。当玻璃相对于输送平台移动的距离超过误差范围时,RTA设备会检测到玻璃的位置发生变动,从而自动停机,这样就会给工作人员带来额外工作量及产能损失;甚至,当玻璃相对于输送平台滑动严重时,还会出现玻璃碎裂,造成经济损失。
发明内容
针对现有技术中的玻璃相对于输送平台产生相对滑移并可能造成碎裂的问题,本发明提出了应用在快速退火设备中的输送装置。
本发明提出的输送装置,用于快速加热退火设备,所述输送装置包括平台,其特征在于,其还包括在所述平台的朝向玻璃的一面上、相对设置在玻璃的两条相对边的外围的阻挡机构。
这样设置的输送装置,当其承载着玻璃运动时,阻挡机构能够防止玻璃相对于平台产生滑移,或使得滑移量保持在误差范围内,从而RTA设备不会检测到玻璃的位置变动,避免了由此产生的自动停机和工作人员负荷量,同时,也避免了玻璃由于滑移过大产生的碎裂,节省了成本。
作为对本发明的输送装置的进一步改进,其还包括设置在所述平台上、沿所述平台的运动方向延伸的第一孔槽,所述阻挡机构相对设置在所述第一孔槽中并能够分别沿所述第一孔槽移动。这种结构的输送装置,将需要处理的玻璃放置在相对设置的阻挡机构之间。当需要处理的玻璃尺寸不同时,可以移动阻挡机构,使其适应玻璃的尺寸。这样的输送装置不再局限于单一的玻璃尺寸,提高了其应用的广泛性,进一步降低了成本。另外,玻璃相对于平台产生的滑移主要是沿平台的运动方向,因此,当第一孔槽沿平台的运动方向延伸时,阻挡机构能够最大程度地限制玻璃相对于平台的滑移量。
作为对本发明的输送装置的进一步改进,其还包括设置在所述平台上、沿与所述第一孔槽延伸方向垂直的方向延伸的第二孔槽,所述阻挡机构相对设置在所述第二孔槽中并能够分别沿所述第二孔槽移动。由于RTA设备的震动,玻璃不仅会产生沿平台运动方向的滑移,还可能产生沿其他方向的滑移,因此,当同时设置与第一孔槽延伸方向垂直延伸的第二孔槽和设置于第二孔槽中的阻挡机构时,能够最大程度地限制玻璃由于震动而产生的偏移。
作为对阻挡机构的进一步改进,所述阻挡机构包括阻挡单元和穿过所述第一孔槽或第二孔槽的紧固单元,通过所述紧固单元能够移动所述阻挡单元或将所述阻挡单元固定在所述平台的预设位置。当玻璃的放置位置或尺寸改变时,通过打开紧固单元能够移动阻挡单元的位置,当将阻挡单元移动到与玻璃相适配的位置时,通过紧固单元将其固定住,以便在输送装置带动玻璃运动时将玻璃的滑移量控制在误差范围内。
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