[发明专利]一种G6型高效多晶自喷坩埚的喷涂工艺

权利要求书

1.一种G6型高效多晶自喷坩埚的喷涂工艺，其特征在于：包括如下步骤：坩埚检查——坩埚加热——配粉——搅拌——试喷——喷涂——冷却；

所述坩埚加热中：坩埚加热温度恒定在84-86℃；

所述配粉中：按质量的配比配置如下种类的物品：氮化硅粉为650-850份，DI水用量为1900-2100份，硅溶胶为200-300份；

所述搅拌：用量杯量取配粉步骤中规定容积的DI水和硅溶胶进行搅拌，搅拌速度为500-600转/min，搅拌时间为7-9min，搅拌均匀；然后加入配粉步骤中规定重量的氮化硅粉，以同样的速度搅拌14-16min；

所述试喷：喷枪压力范围是33psi-37psi，先在纸板上试喷，当喷射的液体在纸板上呈均匀雾状分布，宽度在3-5cm，表明喷枪可以用于正式喷涂；

所述喷涂：喷枪离距所需的喷涂表面垂直距离为30-40cm，定位着落坩埚宽度为15-20cm，通过横竖交叉状态均匀喷涂，待底层干后方再喷涂第二遍，底部喷涂5遍，坩埚高度440mm往上不需要喷涂，在喷涂过程中一次喷涂厚度控制在小于0.01mm内，坩埚喷涂温度在40℃-65℃。

2.根据权利要求1所述的G6型高效多晶自喷坩埚的喷涂工艺，其特征在于：所述配粉中：按质量的配比配置如下种类的物品：氮化硅粉为750份，DI水用量为2000份，硅溶胶为250份。

3.根据权利要求1所述的G6型高效多晶自喷坩埚的喷涂工艺，其特征在于：所述搅拌：用量杯量取配粉步骤中规定容积的DI水和硅溶胶进行搅拌，搅拌速度为550转/min，搅拌时间为8min，搅拌均匀；然后加入配粉步骤中规定重量的氮化硅粉，以同样的速度搅拌15min。

4.根据权利要求1所述的G6型高效多晶自喷坩埚的喷涂工艺，其特征在于：所述试喷：喷枪压力范围是35psi，先在纸板上试喷，当喷射的液体在纸板上呈均匀雾状分布，宽度在4cm，表明喷枪可以用于正式喷涂。

5.根据权利要求1所述的G6型高效多晶自喷坩埚的喷涂工艺，其特征在于：所述喷涂：喷枪离距所需的喷涂表面垂直距离为35cm，定位着落坩埚宽度为18cm，通过横竖交叉状态均匀喷涂，待底层干后方再喷涂第二遍，底部喷涂5遍，坩埚高度440mm往上不需要喷涂，在喷涂过程中一次喷涂厚度控制在小于0.01mm内，坩埚喷涂温度在55℃。