[发明专利]一种光刻胶瓶

说明书

技术领域

本发明涉及半导体集成电路制造领域，尤其涉及一种光刻胶瓶。

背景技术

在半导体集成电路制造领域，光刻处于硅片加工过程的中心，常被认为是IC制造中最关键的步骤，成本几乎占到整个硅片加工成本的三分之一。光刻技术需要用到光刻胶，光刻胶是一种有机化合物，它受紫外线曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，硅片制造中，光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。光刻胶一般被放在光刻胶容器中，光刻胶容器通常是一密闭的系统，它们是不透光的，并且直接固定在硅片轨道系统上，避免暴露在空气中。

现有的光刻胶容器分为两类，一类是玻璃瓶，光刻胶直接装进玻璃瓶中，长软管插入瓶底，再通过高压气孔通入氮气，将光刻胶从长软管压出。此类光刻胶瓶在运输和使用过程中易碎，光刻胶流出后，特别是在工厂内会造成有毒物污染，并且报空更换后瓶底仍有20～40ml光刻胶无法使用，被浪费掉。第二类是NOWPAK瓶，包括瓶身和内胆，内胆是由平面的2层长方形口袋状PE膜加一个接口组成，装好光刻胶放入圆柱形的瓶身中，长硬管插入瓶底，再通过高压气孔通入氮气，将光刻胶从长硬管压出。在更换光刻胶时粘有光刻胶的长硬管从空瓶中取出后，戳破新瓶的PE膜再插入新瓶中，这时会有光刻胶被残留在PE膜上，时间长后变干，变成微粒会掉入新瓶中形成缺陷。当光刻胶瓶报空更换后，内囊4个角会有50～70ml光刻胶残留无法被使用到，并且当光刻胶快空时，光刻胶长管口易被内胆堵住，造成晶圆作业时喷涂不良。

因此，有必要对现有的光刻胶瓶进行优化改进，以便改善光刻胶浪费、喷涂作业不良等问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻胶瓶，以解决现有技术中存在的光刻胶浪费、光刻胶喷涂不良等问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种光刻胶瓶，包括外瓶和设置于外瓶内部的内囊，所述外瓶内部设置有一支撑部，所述支撑部与所述外瓶的底壁的外表面构成一锐角；所述内囊的底壁设置于所述支撑部上；所述外瓶上设置有一开口，所述开口的底壁较所述内囊的底壁更靠近所述外瓶的底壁；

可选的，所述外瓶还设置有一气体接口，所述内囊与所述气体接口位于所述支撑部同侧；

可选的，所述内囊的顶壁与所述外瓶连接；所述内囊的底壁与所述支撑部相匹配；

可选的，所述内囊的外形与所述外瓶侧壁的内表面的外形相匹配；

可选的，所述内囊的底壁上设置有内囊接口，所述内囊接口位于所述开口内；

可选的，所述内囊接口的尺寸与所述开口的尺寸相匹配；

可选的，所述内囊的材料为玻璃或PE材料；

可选的，所述外瓶材料为PE材料，并且是黑色，并且100～400nm波长光无法透过；

可选的，所述外瓶为双层结构；

可选的，所述支撑部将所述外瓶分为相互隔绝的第一部分和第二部分，所述第二部分上设置有一通气孔；

可选的，所述外瓶的侧壁的外表面上设置有凹陷部；或者，所述外瓶的侧壁的外表面和或所述外瓶的顶壁的外表面上设置有把手；或者，所述外瓶的侧壁的外表面和或所述外瓶的顶壁的外表面上具有一牵引体。

在本发明提供的光刻胶瓶中，包括外瓶和设置于外瓶内部的内囊，所述外瓶内部设置有一支撑部，所述支撑部与所述外瓶的底壁的外表面构成一锐角；所述内囊的底壁设置于所述支撑部上；所述外瓶上设置有一开口，所述开口的底壁较所述内囊的底壁更靠近所述外瓶的底壁。注满了光刻胶的内囊放置于外瓶内部的支撑部上，内囊的底壁与支撑部接触，由于所述支撑部与所述外瓶底壁的外侧面构成一锐角，即：自然状态时，支撑部呈倾斜状态。内囊内的光刻胶受到重力，从外瓶开口处流出，开口在内囊底壁的下方，不需要插入长软管或长硬管，避免了换新瓶时管口壁上的光刻胶残留在新瓶的PE膜上，变干以后掉入新瓶中形成缺陷，并且光刻胶快耗尽时，内囊也不会堵住开口。另外，本发明中，自然状态时，支撑部呈倾斜状态，光刻胶是通过自身重力从低于内囊处的开口流出，瓶内的光刻胶可完全利用，避免了浪费，节约了成本。此外，所述内囊的外形可与外瓶侧壁的内表面的外形相匹配，可容纳更多光刻胶，所述内囊底面可设置为与支撑部匹配，使内囊底面更好的贴合支撑部，可最大限度使用完瓶内的光刻胶，避免浪费。

附图说明

图1是实施例提供的第一种光刻胶瓶的示意图；

图2是实施例提供的光刻胶瓶内囊的示意图；

图3是实施例提供的第二种光刻胶瓶的示意图；

图4是实施例提供的第三种光刻胶瓶的示意图；