[发明专利]一种相控阵天线的幅相校准方法有效
申请号: | 201710306730.8 | 申请日: | 2017-05-04 |
公开(公告)号: | CN108809447B | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 漆一宏;于伟;金奇 | 申请(专利权)人: | 深圳市通用测试系统有限公司 |
主分类号: | H04B17/12 | 分类号: | H04B17/12;H04B17/10;H04B17/21 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄琼 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 相控阵 天线 校准 方法 | ||
1.一种相控阵天线的幅相校准方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1:相控阵天线位于初始采样点,通过测量天线测得所述相控阵天线的待测辐射单元与参考辐射单元的合矢量功率;
S2:改变所述待测辐射单元的移相器的相移量,所述参考辐射单元保持不变,测得所述合矢量功率,直至遍历移相器的360°相移量;
S3:根据预设采样精度,改变所述待测辐射单元与参考辐射单元至测量天线的波程差,在新的采样点测得所述合矢量功率;
S4:改变所述待测辐射单元的移相器的相移量,所述参考辐射单元保持不变,测得所述合矢量功率,直至遍历移相器的360°相移量;
S5:重复S3~S4,直至遍历预设采样点;
S6:将测得的所有合矢量功率拟合得到正弦曲线,获取所述正弦曲线的极值,据此得到待测辐射单元的相对幅相;
S7:依次对所述相控阵天线的其他待测辐射单元重复步骤S1~S6,直至得到所有辐射单元的相对幅相;
S8:将所有辐射单元的幅相调整到一致,完成相控阵天线的幅相校准。
2.如权利要求1所述的相控阵天线的幅相校准方法,其特征在于,所述参考辐射单元为相控阵天线中除待测辐射单元之外的其余所有辐射单元。
3.如权利要求1所述的相控阵天线的幅相校准方法,其特征在于,S3中所述波程差的改变通过测量天线与相控阵天线相对位置的改变而实现。
4.如权利要求1或3所述的相控阵天线的幅相校准方法,其特征在于,S3中所述波程差的改变量小于所述移相器的相移量与360°的比值乘以所述相控阵天线的波长。
5.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该计算机程序用于执行权利要求1所述步骤的计算机可读程序指令。
6.一种电子设备,包括:存储器、及存储在存储器上的计算机程序,其特征在于,计算机程序用于执行权利要求1所述步骤的计算机可读程序指令。
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