[发明专利]图像传感器的成像控制方法、图像传感器，以及成像装置

权利要求书

1.一种图像传感器的成像控制方法，其特征在于，所述图像传感器包括：感光单元阵列、设置在所述感光单元阵列上的滤光单元阵列和控制滤光单元移动的微机械结构，所述方法包括以下步骤：

检测当前环境光强度；

当所述当前环境光强度小于预设强度时，控制所述滤光单元阵列以第一排列方式进行排列；

控制所述感光单元阵列进行曝光，并读取所述感光单元阵列的输出值，以得到所述感光单元阵列的像素值从而生成图像；

当所述当前环境光强度大于预设强度时，控制所述滤光单元阵列以第二排列方式进行排列；所述第一排列方式包括多个相同颜色滤光单元组成的大型拜耳阵列，所述第二排列方式包括多个拜耳阵列。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述滤光单元阵列以第一排列方式进行排列，包括：

判断当前所述滤光单元阵列的排列方式是否为第一排列方式；

当所述滤光单元阵列的排列方式为第一排列方式时，保持当前排列方式；或者

当所述滤光单元阵列的排列方式为第二排列方式时，利用所述微机械结构控制所述滤光单元阵列从所述第二排列方式切换至所述第一排列方式。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二排列方式为拜耳阵列，所述利用所述微机械结构控制所述滤光单元阵列从所述第二排列方式切换至所述第一排列方式，包括：

将所述第二排列方式中的2*2个拜耳阵列转换为所述第一排列方式中的一个由2*2个相同颜色滤光单元组成的大型拜耳阵列。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述2*2个拜耳阵列中，位于左上位置的拜耳阵列为第一拜耳阵列，位于右上位置的拜耳阵列为第二拜耳阵列，位于左下位置的拜耳阵列为第三拜耳阵列，位于右下位置的拜耳阵列为第四拜耳阵列，将所述第二排列方式中的2*2个拜耳阵列转换为所述第一排列方式中的一个由2*2个相同颜色滤光单元组成的大型拜耳阵列，包括：

将所述第一拜耳阵列中的右上位置的滤光单元与所述第二拜耳阵列中的左上位置的滤光单元进行互换；

将所述第一拜耳阵列中的左下位置的滤光单元与所述第三拜耳阵列中的左上位置的滤光单元进行互换；

将所述第一拜耳阵列中的右下位置的滤光单元与所述第四拜耳阵列中的左上位置的滤光单元进行互换；

将所述第二拜耳阵列中的右下位置的滤光单元与所述第四拜耳阵列中的右上位置的滤光单元进行互换；

将所述第三拜耳阵列中的右下位置的滤光单元与所述第四拜耳阵列中的左下位置的滤光单元进行互换。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，控制所述滤光单元阵列以第二排列方式进行排列，包括：

判断当前所述滤光单元阵列的排列方式是否为第二排列方式；

当所述滤光单元阵列的排列方式为第二排列方式时，保持当前排列方式；或者

当所述滤光单元阵列的排列方式为第一排列方式时，利用所述微机械结构控制所述滤光单元阵列从所述第一排列方式切换至所述第二排列方式。

6.一种图像传感器，其特征在于，包括：

感光单元阵列；

设置在所述感光单元阵列上的滤光单元阵列；

控制滤光单元移动的微机械结构；

所述滤光单元阵列的排列方式包括第一排列方式和第二排列方式，所述第一排列方式包括多个由2*2个相同颜色滤光单元组成的大型拜耳阵列，所述第二排列方式包括多个2*2个拜耳阵列。

7.一种成像装置，其特征在于，包括：

如权利要求6所述的图像传感器；和

检测模块，所述检测模块用于检测当前环境光强度；

控制模块，所述控制模块用于当所述当前环境光强度小于预设强度时，控制所述滤光单元阵列以第一排列方式进行排列；

控制所述感光单元阵列进行曝光，并读取所述感光单元阵列的输出值，以得到所述感光单元阵列的像素值从而生成图像；所述第一排列方式包括多个相同颜色滤光单元组成的大型拜耳阵列，所述第二排列方式包括多个拜耳阵列。