[发明专利]水处理的物位控制系统及水处理系统

权利要求书

1.水处理的物位控制系统，包括控制单元、排泥装置、检测单元，所述控制单元接收所述检测单元的信号并对所述排泥装置的启闭进行控制；

其特征在于：

所述检测单元包括位于水面以下的光源件与光接收组件；

所述光接收组件由共面的二个以上的光接收件构成；

所述光源件与所述光接收组件之间具有间距。

2.根据权利要求1所述物位控制系统，其特征在于：

二个以上的所述光接收件呈矩阵排列。

3.根据权利要求2所述物位控制系统，其特征在于：

二个以上的所述光接收件相互离散布置或相互毗邻布置。

4.根据权利要求1所述物位控制系统，其特征在于：

所述光源件为光源组件，所述光源组件由共面的二个以上的光源件构成。

5.根据权利要求4所述物位控制系统，其特征在于：

二个以上的所述光源件呈矩阵排列。

6.根据权利要求5所述物位控制系统，其特征在于：

二个以上的所述光源件相互离散布置或相互毗邻布置。

7.根据权利要求1所述物位控制系统，其特征在于：

还包括用于调节所述间距的调节机构。

8.根据权利要求1至7任一项所述物位控制系统，其特征在于：

还包括第一水密壳体与第二水密壳体；

所述光源件置于所述第一水密壳体内，所述第一水密壳体上设有第一透光窗口；

所述光接收组件置于所述第二水密壳体内，所述第二水密壳体上设有与所述第一透光窗口相对布置的第二透光窗口。

9.根据权利要求8所述物位控制系统，其特征在于：

还包括用于对所述第一透光窗口与所述第二透光窗口进行清洗的清洗单元。

10.水处理系统，包括物位控制系统；

其特征在于：

所述物位控制系统为权利要求1至9任一项所述物位控制系统。