[发明专利]一种基于光谱干涉装置的测量系统

权利要求书

1.一种基于光谱干涉装置的测量系统，其特征在于：所述测量系统包括光源(101)，与光源(101)依次连接的扩束准直透镜(102)、起偏器(103)、检偏器(105)、自聚焦透镜(106)、光谱仪(107)及数据处理单元(108)；待测双折射晶体(104)连接所述起偏器(103)与检偏器(105)之间；

所述起偏器(103)用于将经扩束准直透镜(102)输出的平行光起偏为线偏振光；

所述起偏器(103)的偏振轴与待测双折射晶体(104)的任意偏振轴有夹角θ；所述检偏器(105)与待测双折射晶体(104)的任意偏振轴夹角为45度；

其中，θ≠Nπ，N为整数；

所述测试系统应用于如下测量方法：

(1)打开光源(101)，旋转起偏器(103)调整夹角θ，观察光谱仪接收到的光谱条纹，使其干涉对比度最佳，获得最佳干涉条纹，干涉条纹为：

(2)使用光谱仪采集步骤(1)所述最佳光谱干涉条纹，数据处理单元(108)对步骤(1)中最佳干涉条纹进行傅里叶变换，得到交流项及直流项；

(3)根据步骤(2)交流项及直流项的时间间隔，计算出待测双折射晶体(104)的延迟量t；

(4)根据步骤(3)所述延迟量t及待测双折射晶体(104)的折射率n，计算出待测双折射晶体(104)的厚度h：

h＝ct/n；

测试灵敏度d为：

其中，λ₀为光源的中心波长，Δλ为光源谱宽，c为光速，t为待测双折射晶体(104)的延迟量；

所述I(w)为所述光谱仪(107)上接收到的干涉条纹，所述I_o(w)为所述起偏器(103)输出的线偏振光，所述为两路光经双折射晶体后的光程差。

2.根据权利要求1所述的基于光谱干涉装置的测量系统，其特征在于：所述数据处理单元(108)为PC机。

3.根据权利要求1所述的基于光谱干涉装置的测量系统，其特征在于：所述光源(101)为宽谱光源。

4.根据权利要求1-3任一所述的基于光谱干涉装置的测量系统，其特征在于：所述测量装置用于双折射晶体厚度测量。