[发明专利]一种洗浴用品的除蜡清洗工艺

说明书

技术领域

本发明涉及工件表面清理领域，特别涉及一种洗浴用品的除蜡清洗工艺。

背景技术

目前，针对研磨后洗浴用品的工件，其清洗方法为超声水基粗洗—超声水基粗洗—超声水基精洗—纯水喷淋漂洗—超声纯水漂洗—纯水漂洗—热风循环干燥，而在超声水基粗洗和粗洗阶段采用的水基清洗剂为表面活性剂+清洗助剂，主要是通过表面活性剂的乳化、渗透、溶解等作用达到清洗的目的，而随着对工作清洗要求的提高，目前该清洗方法已不能满足要求，其主要存在问题为：清洗后产品表面易出现水印、氧化、产品腐蚀等不良现象，同时清洗后不良率高达8％-15％，而且采用表面活性剂，容易产生废水，处理成本增大，而排放到环境中容易对环境产生影响。

因此，亟需一种能够提高清洗的良品率，避免出现水印、氧化、产品腐蚀等现象，同时可以减少甚至是避免废水的产生，从而避免处理成本的增加以及对环境造成不好的影响。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种洗浴用品的除蜡清洗工艺，该工艺清洗良品率高，品质稳定，不会出现水印、氧化、产品腐蚀等现象，同时为无水化清洗，无污染无排放，对环境不产生影响。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案为，一种洗浴用品的除蜡清洗工艺，包括如下步骤：

前真空超声波清洗：将工件置于温度为50～55℃的碳氢清洗剂中，同时将频率为28KHz、大小为1.80KW的超声波接入碳氢清洗剂中，交替地进行真空清洗和入气清洗，真空清洗的条件为真空度-65Kpa，清洗时间10s，入气清洗条件为标准大气压下清洗时间为30s,真空清洗和入气清洗的总时间为240～360s；

真空清洗：将工件置于温度为45～55℃的碳氢切水剂中，交替地进行真空清洗和入气清洗，真空清洗的条件为真空度-75Kpa，清洗时间10s，入气清洗条件为标准大气压下清洗时间为30s,真空清洗和入气清洗的总时间为240～360s；

后真空超声波清洗：将工件置于温度为50～55℃的碳氢清洗剂中，同时将频率为28KHz、大小为1.80KW的超声波接入碳氢清洗剂中，交替地进行真空清洗和入气清洗，真空清洗的条件为真空度-65Kpa，清洗时间10s，入气清洗条件为标准大气压下清洗时间为30s,真空清洗和入气清洗的总时间为240～360s；

蒸汽浴洗与真空干燥：在真空度为-90Kpa的条件下，先将工件置于温度为80～110℃的碳氢清洗剂所形成的蒸汽中进行真空浴洗2～3次，每次清洗时间为20s，完成蒸汽浴洗后，调整真空度为-100Kpa，并在温度为90～110℃条件下干燥180～240s；

其中，前真空超声波清洗、真空清洗、后真空超声波清洗均重复两次，前真空超声波清洗、蒸汽浴洗与真空干燥与后真空超声波清洗的碳氢清洗剂均为C₁₀H₂₂类碳氢清洗剂，碳氢切水剂为C₁₁H₂₄类碳氢切水剂。

优选地，两次前真空超声波清洗均通过蒸馏回收步骤回收清洗后废液中的碳氢清洗剂，并回流至后真空超声波清洗中。

进一步优选地，蒸馏回收步骤为：首先收集并储存两次前真空超声波清洗后的废液，再经过过滤，将剥离下来的大部分抛光蜡和脏污从废液中分离出来，最后经过真空蒸馏，利用碳氢清洗剂和脏污的沸点差将碳氢清洗剂与脏污分离，蒸馏过程中的碳氢清洗剂形成蒸汽，经冷凝后储存，作为后真空超声波清洗中的碳氢清洗剂。

优选地，两次后真空超声波清洗为前、后不同位置上依次序的两个清洗步骤，第一次后真空超声波清洗中的碳氢清洗剂经过蒸馏回收步骤的储存、蒸馏回收后作为第二次后真空超声波清洗中的碳氢清洗剂，而第二次后真空超声波清洗中的碳氢清洗剂则部分回流作为第一次后真空超声波清洗中的清洗剂。

优选地，蒸汽浴洗与真空干燥通过冷凝回收步骤回收碳氢清洗剂，回收后的碳氢清洗剂作为两次后真空超声波清洗步骤中至少一个步骤的碳氢清洗剂。

本发明采用碳氢切水剂以及无污染、添加表面活性剂的碳氢清洗剂对工件进行清洗，同时通过各个步骤：前真空超声波清洗-真空清洗-后真空超声波清洗-蒸汽浴洗与真空干燥的排序以及重复次数的控制，从而提高洗浴用品的除蜡清洗的良品率，达98％，同时工件表面出现水印、氧化、产品腐蚀等现象完全解决，清洗品质稳定，无废水排放，废液处理成本低，环保无污染。

附图说明

图1为本发明一种洗浴用品的除蜡清洗工艺的工艺流程图。

具体实施方式