[发明专利]一种矮生百慕大的种植方法在审
| 申请号: | 201710219788.9 | 申请日: | 2017-04-06 |
| 公开(公告)号: | CN106912291A | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
| 发明(设计)人: | 陈方明;王瑛 | 申请(专利权)人: | 湖南中绿恒生态草业有限公司 |
| 主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 410000 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 百慕大 种植 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种草皮种植技术,尤其是一种矮生百慕大的种植方法。
背景技术
矮生百慕大是园林绿化草皮中常用的草本植物,一般的都是采用旱地种植种草。
矮生百慕大草坪主要的繁殖成品是:泥地繁殖、沙坪繁殖、无土繁殖三类成品草坪。
泥地繁殖的矮生百慕大草坪优点是价格便宜,成本低,缺点是杂草多、成品外观质量不佳,常用于要求不高的一般绿化区域或作为沙坪繁殖和无土繁殖的原料用草。
沙坪繁殖的矮生百慕大草坪优点是成品外观效果好、杂草少、草坪根茎致密移植后成活率高,缺点是成本较高,价格较贵,常用于中高档景观需求的草坪绿化区或中高档运动草坪区。
无土繁殖的矮生百慕大草坪优点是杂草少、根茎保护最完整、易于搬运,缺点是成本较高,价格较贵,常用于中高档绿化区或屋顶绿化区以及运动场地。该草坪主要通过无性繁殖的方法(根茎繁殖)进行繁殖,为保持该杂交品种的性状优良和品质纯正,通常采用单一品种栽培繁殖的方法,不采用和其他百慕大杂交种混合种植的方法。
而上述3种种植矮生百慕大的方法均为旱地种植,第一种泥地繁殖的方法虽然成本低,但是杂草多,成品外观质量不佳;而沙坪繁殖与无土繁殖的方法虽然外观效果好,杂草少,但是成本较高,价格较贵。因为,亟待发明一种外观效果好,杂草少,成本低的矮生百慕大种植方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种外观效果好,杂草少,成本低的矮生百慕大种植方法,已解决上述背景技术中提到的技术问题。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种矮生百慕大的种植方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
A、草块制作:选用带茎的、无性繁殖的矮生百慕大草皮,用碎草机将草皮卷辗成2mc*2cm的草块;
B、种植床制作:选择收割后的稻田作为种植床,灌水20cm后,利用旋耕机将稻田打成泥浆状,并人工或牛将泥浆赶平整;
C、撒草块:将步骤A中处理好的小草块均匀撒到步骤B中处理好的稻田中;
D、滚压:使用带轴的PVC管道滚压草块,使草块与泥浆充分粘合;
E、控制种植床的养护:矮生百慕大苗期发现杂草及时除草;
F、待草块成型后,将草块剪成35mm*80mm的草块,即可作为成品出售。
优选地,所述步骤B稻田中泥浆的坡度控制为中间高,两边低。
优选地,所述步骤C中撒草块时小草块面积与稻田的面积比例为1∶7-1∶10。
本发明的有益效果是:
1.本发明一种矮生百慕大的种植方法,采用水田种植,相对于旱地种植草皮的方法,本发明能有效减少草皮的水分流失,成活率高,更适合夏季种植。
2.本发明相对于旱地种植草皮的方法,无需进行草皮洒水的配套设施建设,如铺设管道、洒水机等,成本降低。
3.本发明采用水田种植草皮,使草皮在生长过程中能提供充分的水分需要,相对于旱地种植,生长速度提高了30%。
具体实施方式
一种矮生百慕大的种植方法,所述方法包括以下步骤:
A、草块制作:选用带茎的、无性繁殖的矮生百慕大草皮,用碎草机将草皮卷辗成2mc*2cm的草块;
B、种植床制作:选择收割后的稻田作为种植床,灌水20cm后,利用旋耕机将稻田打成泥浆状,并人工或牛将泥浆赶平整;
C、撒草块:将步骤A中处理好的小草块均匀撒到步骤B中处理好的稻田中;
D、滚压:使用带轴的PVC管道滚压草块,使草块与泥浆充分粘合;
E、控制种植床的养护:矮生百慕大苗期发现杂草及时除草;
F、待草块成型后,将草块剪成35mm*80mm的草块,即可作为成品出售。
本实施例中,步骤B稻田中泥浆的坡度控制为中间高,两边低。
本实施例中,步骤C中撒草块时小草块面积与稻田的面积比例为1∶7-1∶10。
本发明的有益效果是:
1.本发明一种矮生百慕大的种植方法,采用水田种植,相对于旱地种植草皮的方法,本发明能有效减少草皮的水分流失,成活率高,更适合夏季种植。
2.本发明相对于旱地种植草皮的方法,无需进行草皮洒水的配套设施建设,如铺设管道、洒水机等,成本降低。
3.本发明采用水田种植草皮,使草皮在生长过程中能提供充分的水分需要,相对于旱地种植,生长速度提高了30%。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
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