[发明专利]一种耐磨砂布和其生产方法在审

专利信息
申请号: 201710211101.7 申请日: 2017-04-01
公开(公告)号: CN106891277A 公开(公告)日: 2017-06-27
发明(设计)人: 耿彦昌 申请(专利权)人: 长葛市老城昌宝建筑机械配件厂
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00;B24D11/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 461500 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 耐磨 砂布 生产 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及磨具磨料技术领域,特别是涉及砂布及其生产方法。

背景技术

砂布包括基体和上面的研磨层,研磨层用粘胶层粘接在基体上,研磨层是由研磨颗粒制成的,研磨颗粒如刚玉颗粒、碳化硅颗粒等;现有技术中,只是要求研磨颗粒粘接在基体上,基体只粘了研磨层一个面,这样存在着粘接不牢的缺点,或者存在着散热效果差的缺点,影响砂布的正常使用。

现有技术中,砂布是用拌有粘胶的研磨颗粒直接摊铺在基体上形成的,它具有耐用性能差的缺点。

发明内容

本发明的目的就是针对上述缺点,提供一种更经久耐用、散热效果也更好的耐磨砂布,还提供一种生产耐磨砂布的生产方法。

本发明耐磨砂布的技术方案是这样实现的:一种耐磨砂布,包括基体和上面的研磨层,研磨层用粘胶层粘接在基体上,研磨层是由研磨颗粒制成的,其特征是:所述的研磨颗粒下面和基体之间具有第一粘接材料层,所述的研磨颗粒之间具有第二粘接材料层。

进一步地讲,所述的研磨颗粒具有下面大、上面小的结构。

进一步地讲,所述的研磨颗粒浸没在粘胶层中的高度占整体高度的1/4—1/2。

本发明耐磨砂布的生产方法的技术方案是这样实现的:耐磨砂布的生产方法,包括以下步骤:

a、首先用第一粘接材料摊铺在基体上形成一层第一粘接材料层;

b、在具有第一粘接材料层上铺设一层研磨颗粒,形成一层研磨颗粒层;

c、研磨颗粒层上再喷涂一层第二粘接材料形成第二粘接材料层。

较好的,在步骤a中,所述的基体保持在温度70-80℃的情况下摊铺第一粘接材料。

较好的,在步骤b中,所述的研磨颗粒可以采取喷射方法粘接在第一粘接材料层上。

较好的,在步骤c中,所述的研磨颗粒层保持在温度70-80℃的情况下喷涂第二粘接材料。

本发明的有益效果是:这样的耐磨砂布具有更经久耐用、散热效果也好的优点;

所述的研磨颗粒具有下面大、上面小的结构,所述的研磨颗粒下面和基体之间具有第一粘接材料层,所述的研磨颗粒之间具有第二粘接材料层,具有研磨颗粒和基体之间粘接更牢固的优点。

这样的生产方法能够生产出研磨颗粒粘接更牢固,更经久耐用的砂布;

所述的基体保持在温度70-80℃的情况下摊铺第一粘接材料,保证了第一粘接材料具有较好的流动性;

所述的研磨颗粒可以采取喷射方法粘接在第一粘接材料层上,可以使较多的研磨颗粒的面粘接在第一研磨材料层上,并且粘接牢固;

所述的研磨颗粒层保持在温度70-80℃的情况下喷涂第二粘接材料,可以使第二粘接材料粘接性能更好,并在研磨颗粒上形成的粘接层较薄的优点。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

h—研磨颗粒浸没在粘胶层中的高度。

H—整体高度。

其中:1、基体2、研磨颗粒3、粘胶层31、第一粘接材料层32、第二粘接材料层。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的描述。

如图1所示,一种耐磨砂布,包括基体1和上面的研磨层,研磨层用粘胶层3粘接在基体上,研磨层是由研磨颗粒2制成的,其特征是:所述的研磨颗粒下面和基体之间具有第一粘接材料层31,所述的研磨颗粒之间具有第二粘接材料层32。

进一步地讲,所述的研磨颗粒具有下面大、上面小的结构。

进一步地讲,所述的研磨颗粒浸没在粘胶层中的高度占整体高度的1/4—1/2。

本发明耐磨砂布的生产方法的技术方案是这样实现的:耐磨砂布的生产方法,包括以下步骤:

a、首先用第一粘接材料摊铺在基体上形成一层第一粘接材料层;

b、在具有第一粘接材料层上铺设一层研磨颗粒,形成一层研磨颗粒层;

c、研磨颗粒层上再喷涂一层第二粘接材料形成第二粘接材料层。

较好的,在步骤a中,所述的基体保持在温度70-80℃的情况下摊铺第一粘接材料。

发明人经过试验,在基体保持在温度70-80℃的情况下摊铺第一粘接材料可以使第一粘接材料粘接在基体上更牢固。

较好的,在步骤b中,所述的研磨颗粒可以采取喷射方法粘接在第一粘接材料层上。

较好的,在步骤c中,所述的研磨颗粒层保持在温度70-80℃的情况下喷涂第二粘接材料。

发明人经过试验,在基体保持在温度70-80℃的情况下摊铺第一粘接材料可以使第一粘接材料粘接在基体上更牢固。

以上所述仅为本发明的具体实施例,但本发明的结构特征并不限于此,任何本领域的技术人员在本发明的领域内,所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围内。

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