[发明专利]感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷布线板的制造方法在审
申请号: | 201710208583.0 | 申请日: | 2011-12-15 |
公开(公告)号: | CN107367903A | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 久保田雅夫 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | G03F7/031 | 分类号: | G03F7/031;G03F7/033;G03F7/085;G03F7/09;H05K3/00;H05K3/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 白丽,陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 元件 图案 形成 方法 以及 印刷 布线 制造 | ||
1.一种感光性元件,其是具备支撑膜和形成在该支撑膜上的由感光性树脂组合物得到的感光层的感光性元件,其中,
所述支撑膜的雾值为0.01~1.5%,且该支撑膜中所含有的直径为5μm以上的粒子和直径为5μm以上的凝聚物的总数为5个/mm2以下,
所述感光层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和键的光聚合性化合物以及光聚合引发剂,
所述感光层的厚度T和所述感光层的365nm下的吸光度A满足下述式(I)所示的关系,
0.001≤A/T≤0.020 (I)。
2.如权利要求1所述的感光性元件,其中,所述光聚合引发剂含有2,4,5-三芳基咪唑二聚物。
3.如权利要求1或2所述的感光性元件,其中,所述光聚合引发剂含有分别由下述通式(XI)或(XII)所示的吡唑啉化合物,
所述通式(XI)、(XII)中,R各自独立地表示碳数为1~12的直链状或支链状的烷基、碳数为1~10的直链状或支链状的烷氧基、或者卤素原子,a、b及c各自独立地表示0~5的整数,且a、b及c的总和为1~6,在a、b及c的总和为2以上时,多个存在的R可以相互相同或不同。
4.如权利要求3所述的感光性元件,其中,所述R中的至少一个为异丙基。
5.如权利要求3所述的感光性元件,其中,所述R中的至少一个为甲氧基或乙氧基。
6.如权利要求1~5中任一项所述的感光性元件,其中,所述光聚合性化合物含有下述通式(II)所示的化合物,
通式(II)中,R5及R6各自独立地表示氢原子或甲基,Y表示碳数为2~6的亚烷基,n1及n2各自独立地表示正的整数,且n1+n2为2~40,在n1+n2为2以上时,多个存在的Y可以相互相同或不同。
7.如权利要求1~6中任一项所述的感光性元件,其中,所述粘合剂聚合物具有下述通式(III)、(IV)及(V)所示的2价基团,
通式(III)、(IV)及(V)中,R7、R8以及R10各自独立地表示氢原子或甲基,R9表示碳数为1~4的烷基、碳数为1~3的烷氧基、羟基或卤素原子,R11表示碳数为1~6的烷基,p表示0~5的整数,在p为2以上时,多个存在的R9可以相互相同或不同。
8.如权利要求7所述的感光性元件,其中,所述粘合剂聚合物还具有下述通式(VI)所示的2价基团,
通式(VI)中,R12表示氢原子或甲基,R13表示碳数为1~4的烷基、碳数为1~3的烷氧基、羟基或卤素原子,q表示0~5的整数,在q为2以上时,多个存在的R13可以相互相同或不同。
9.一种抗蚀剂图案的形成方法,其包含:
将权利要求1~8中任一项所述的感光性元件按照所述感光层、所述支撑膜的顺序层叠在电路形成用基板上的层叠工序;
将活性光线透过所述支撑膜照射到所述感光层的规定部分以在所述感光层上形成光固化部的曝光工序;和
将所述光固化部以外的所述感光层除去的显影工序。
10.一种印刷布线板的制造方法,其中,对通过权利要求9所述的抗蚀剂图案的形成方法形成有抗蚀剂图案的电路形成用基板实施蚀刻或镀覆。
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