[发明专利]压印设备、压印方法、制造物品的方法及模具在审
申请号: | 201710204426.2 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN107272330A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 林达也;中川一树;村上洋介 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 贾金岩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压印 设备 方法 制造 物品 模具 | ||
1.一种用于通过使用包括图案化部分的模具在基板的处理区域上形成压印材料的图案的压印设备,所述压印设备包括:
加热单元,所述加热单元被配置成加热模具和基板,
其中,加热单元加热基板使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,加热单元加热模具使得模具与加热过的基板之间的温度差减小。
2.一种用于通过使用包括图案化部分的模具在基板的处理区域上形成压印材料的图案的压印设备,所述压印设备包括:
加热单元,所述加热单元被配置成通过向模具和基板施加光来加热模具和基板,
其中,加热单元致使光吸收部分吸收光的一部分并且向基板施加已穿过光吸收部分和模具的光,使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小并且图案化部分与处理区域之间的温度差小于阈值。
3.根据权利要求2所述的压印设备,
其中加热单元包括被配置成调整光的照射剂量的调整单元,
其中,调整单元包括光调制元件并且使用光调制元件调整光的照射剂量分布,使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,加热单元通过向模具的光吸收部分施加由调整单元调整剂量分布的光以及通过向基板施加已穿过光吸收部分和模具的光而致使图案化部分与处理区域之间的温度分布差小于阈值。
4.根据权利要求2所述的压印设备,
其中,加热单元包括被配置成调整光的照射剂量的调整单元,
其中,调整单元包括辐射能够被调整的多个光源,调整单元调整来自所述多个光源的光的照射剂量分布,使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,加热单元通过向模具的光吸收部分施加由调整单元调整剂量分布的光以及通过向基板施加已穿过光吸收部分和模具的光而使得图案化部分与处理区域之间的温度分布差小于阈值。
5.一种用于通过使用包括图案化部分的模具在基板的处理区域上形成压印材料的图案的压印设备,所述压印设备包括:
基板加热单元,所述基板加热单元被配置成加热基板;以及
模具加热单元,所述模具加热单元被配置成加热模具,
其中,基板加热单元加热基板使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,模具加热单元加热模具使得模具与基板之间的温度差小于阈值。
6.一种用于通过使用包括图案化部分的模具在基板的处理区域上形成压印材料的图案的压印设备,所述压印设备包括:
基板加热单元,所述基板加热单元被配置成通过向基板施加第一光来加热基板,所述第一光针对基板的光吸收率比针对模具的光吸收率高;以及
模具加热单元,所述模具加热单元被配置成通过向模具施加第二光来加热模具,所述第二光针对模具的光吸收率比针对基板的光吸收率高,
其中,所述基板加热单元向基板施加所述第一光,使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,模具加热单元向模具施加第二光,使得模具与用第一光照射的基板之间的温度差小于阈值。
7.根据权利要求6所述的压印设备,其中,模具加热单元向所述基板施加波长在固化所述压印材料的光的波长带之外的光。
8.根据权利要求6所述的压印设备,其中,模具加热单元向模具施加红外线。
9.根据权利要求6所述的压印设备,
其中,加热单元包括被配置成调整光的照射剂量的调整单元,
其中,调整单元包括光调制元件并且使用光调制元件调整光的照射剂量分布,使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,基板加热单元穿过模具向所述基板施加由调整单元调整剂量分布的光。
10.根据权利要求6所述的压印设备,
其中,所述加热单元包括被配置成调整光的照射剂量的调整单元,
其中,调整单元包括辐射能够被调整的多个光源,调整单元调整来自所述多个光源的光的照射剂量分布,使得处理区域与图案化部分之间的形状差异减小,并且
其中,基板加热单元穿过模具向基板施加由调整单元调整剂量分布的光。
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