[发明专利]一种稀土系T/EBC陶瓷基复合环境障涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710198494.2 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN107032831B 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 罗瑞盈;全华锋 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89;C04B35/565;F01D5/28
代理公司: 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司11514 代理人: 安娜
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 稀土 ebc 陶瓷 复合 环境 涂层 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种陶瓷基复合环境障涂层,其特征在于:包括陶瓷基体和复合环境障涂层,所述复合环境障涂层由内到外依次包括抗水氧腐蚀层、化学阻挡层、能量耗散层和热防护屏蔽层,所述抗水氧腐蚀层制备在所述陶瓷基体的表面;

其中,所述抗水氧腐蚀层包括莫来石层和硅酸镥层,所述莫来石层的材料包括莫来石,所述硅酸镥层的材料包括硅酸镥;

所述化学阻挡层的材料包括氮化锆;

所述能量耗散层的材料包括钇铝石榴石;

所述热防护屏蔽层的材料包括锆酸镧。

2.根据权利要求1所述的陶瓷基复合环境障涂层,其特征在于:

所述莫来石层制备在所述陶瓷基体的表面,所述硅酸镥层制备在所述莫来石层的表面;其中,所述莫来石层的厚度为50~90μm,所述硅酸镥层的厚度为50~90μm;

所述化学阻挡层的厚度为4~12μm,孔隙率小于3%;

所述能量耗散层的厚度为30~60μm,孔隙率为20%~30%;

所述热防护屏蔽层厚度为80~140μm;

所述陶瓷基体的材料为碳化硅纤维增强碳化硅陶瓷基复合材料。

3.权利要求1或2所述的陶瓷基复合环境障涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S101:采用大气等离子喷涂法,在所述陶瓷基体的表面依次制备莫来石层和硅酸镥层;

S102:采用低压等离子喷涂法,在所述硅酸镥层的表面制备化学阻挡层;

S103:采用气罩等离子喷涂法,在所述化学阻挡层的表面制备能量耗散层;

S104:采用大气等离子喷涂法,在所述能量耗散层的表面制备热防护屏蔽层,得到所述陶瓷基复合环境障涂层。

4.根据权利要求3所述的陶瓷基复合环境障涂层的制备方法,其特征在于,

所述S101具体包括步骤:

S201:将莫来石粉和硅粉混合后研磨均匀,然后干燥,得到混合粉体;采用大气等离子喷涂法,将所述混合粉体制备在所述陶瓷基体的表面,得到莫来石层;

S202:采用大气等离子喷涂法,将硅酸镥粉制备在所述莫来石层的表面,得到硅酸镥层;

S203:将所述S202得到的产物进行去应力退火;

其中,所述S201中,所述莫来石粉和硅粉的质量比为100:(18~32),所述莫来石粉的粒径为47~73μm,所述干燥的温度为110℃,所述干燥的时间为1h;

所述S202中,所述硅酸镥粉的粒径为30~90μm,松装密度为2~3g/cm3,流动性为10~13s/50g;

所述S203中,所述去应力退火的温度为600~950℃,时间为2~4h,保护气氛为氩气。

5.根据权利要求4所述的陶瓷基复合环境障涂层的制备方法,其特征在于,

所述S202中,在采用所述大气等离子喷涂法之前,将所述硅酸镥粉进行喷雾造粒球化处理,然后进行热处理;其中,所述喷雾造粒球化处理具体包括:喷嘴转速为40rpm,进料速度12~17g/min,进口温度为300~360℃,出口温度为60~80℃,聚乙烯醇粘结剂含量为0.5%~0.9%,固含量为50%;所述热处理温度为1000℃,时间为2h。

6.根据权利要求4所述的陶瓷基复合环境障涂层的制备方法,其特征在于,

所述S201和S202中,所述大气等离子喷涂法中:喷涂功率为28~44kW,喷涂距离为90~135mm,喷枪移动速度为260~600mm/s,主气氩气流量为40~96L/min,辅气氢气流量为12~30L/min,载气氦气流量为0.4~1.65L/min,送粉速率为20~35g/min,电流范围为450~530A。

7.根据权利要求3所述的陶瓷基复合环境障涂层的制备方法,其特征在于,

所述S102中,氮化锆粉末的粒径为23~46μm;所述低压等离子喷涂法中:喷涂功率为20~26kW,喷涂距离为50~80mm,喷枪移动速度为260~600mm/s,送粉气体氦气流量为0.2~0.55L/min,送粉速率为8~15g/min,电流范围为220~320A,真空度小于15kPa。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710198494.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top